Ⅰ 我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法.由于三氯氢硅还原法具有一
(1)根据盖斯定律,反应SiCl4(g)+H2(g)═SiHCl3(g)+HCl(g)可以看成是Si(s)+3HCl(g)═SiHCl3(g)+H2(g)和反应Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)的差,所以△H═-210kJ?mol-1-(-241kJ?mol-1)=+31kJ?mol-1,故答案为:+31kJ?mol-1;
(2)根据题意,反应①HCl中的利用率为75%,反应②中和H2的利用率为80%,即①中有75%的HCl和Si反应,而有25%的HCl和杂质反应了,②中有80%的H2和SiHCl3反应,而有20%的H2和杂质(如氧气)反应了,根据Si(粗)+3HCl(g)═SiHCl3(l)+H2(g),可知4体积的HCl中有3体积和Si反应生成了1体积的H2,而SiHCl3+H2═Si(纯)+3HCl中需要的H2就是1体积,要投放H2为
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Ⅱ 我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法.由于三氯氢硅还原法具有一
(1)根据盖斯定律,反应SiCl4(g)+H2(g)═SiHCl3(g)+HCl(g)可以看成是Si(s)+3HCl(g)═SiHCl3(g)+H2(g)和反应Si(s)+4HCl(g)═SiCl4(g)+2H2(g)的差,所以△H═-210kJ?mol-1-(-241kJ?mol-1)=+31kJ?mol-1,故答案为:+31kJ?mol-1;
(2)利用氢气和纯SiHCl3反应制备高纯硅,反应的化学方程式为:SiHCl3+H2Si+3HCl;HCl、H2、SiHCl3等;
(3)硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷,根据原子守恒,则Mg2Si+4NH4Cl═SiH4↑+2MgCl2+4NH3↑,整个系统还必须与氧隔绝,否则容易发生爆炸,硅化镁和固体氯化铵在水中反应得到硅酸和氢气等,根据原子守恒,则Mg2Si+4NH4Cl+3H2O═2MgCl2+H2SiO3+4NH3↑+4H2↑,
故答案为:Mg2Si+4NH4Cl═SiH4↑+2MgCl2+4NH3↑;Mg2Si+4NH4Cl+3H2O═2MgCl2+H2SiO3+4NH3↑+4H2↑;由于硅烷在空气中易燃,浓度高时容易发生爆炸;
Ⅲ 单晶硅和多晶硅的制备技术有哪些
多晶硅制备技术主要有:
西门子法:80%以上企业采用此方法;
硅烷法:能耗低、产率高,但硅烷易燃易爆,生产安全难控制;
流化床法:能耗低、产率高、成本低,安全性差、纯度低;
物理提存法:能耗低、投资少、产量大,国内未掌握核心技术。