㈠ 石墨烯的制备
1. 微机械剥离法
氧等离子束先在高定向热解石墨表面,用光刻胶将其粘到玻璃衬底上进行焙烧,再用透明胶反复地从石墨上剥离出石墨薄片,放入丙酮溶液中超声振荡,再将单晶硅片放入丙酮溶剂中,,单层石墨烯会吸附在硅片上,从而成功地制备出单层的石墨烯。
优点:该方法简单易行,不需要苛刻的实验条件,得到的石墨烯晶体结构较好,缺陷少,质量高。
缺点:是石墨烯的生产效率极低,仅限于实验室的基础研究。
2. 外延生长法
以单晶6H-SiC 为原料,利用氢气刻蚀处理后,再在高真空下通过电子轰击加热,除去氧化物;热分解去除其中的Si,在单晶(0001)面上分解出石墨烯。
优点:该方法制备的石墨烯电导率较高,适用于对电性能要求较高的电子器件。
缺点:会产生难以控制的缺陷以及多晶畴结构,大面积制备困难。此外,制备条件苛刻、成本高。
3. 石墨插层法
以天然鳞片石墨为原料,用碱金属元素为插层剂,通过插层剂与石墨混合反应得到石墨层间化合物。将一个电子输入石墨晶格中,使得石墨晶体容易发生剥离分开。最后通过超声和离心处理得到石墨烯片。
优点:制备方法相对简单,制备速度快,效率高
缺点:难以得到单层,且加入的插层物质会破坏石墨烯的sp2 杂化结构,使得石墨烯的物理和化学性能受到影响。
4. 溶液剥离法
溶剂剥离法是将石墨分散于溶剂中,利用超声或高速剪切等作用将溶剂插入石墨层间,进行层层剥离,制备出石墨烯。
优点:能得到优质石墨烯。
缺点:是产率很低,不适合大规模生产和商业应用。
5. 化学气相沉积法(CVD)
石墨在较高温度条件下呈气态发生化学反应,退火生成石墨烯沉积在金属基体表面。
优点:能够高质量大规模生成石墨烯。
缺点:不适合制备大规模石墨烯宏观粉体。此外,通过化学腐蚀分离石墨烯与基底金属,需要消耗大量的酸,会对环境产生巨大的污染,成本高。
6. 氧化还原法
首先利用强氧化剂处理石墨,形成亲水性的含氧基团,;然后利用超声方法剥离氧化石墨,,使石墨氧化物片迅速剥离得到单层的氧化石墨烯;最后,在高温或者在还原性溶液中对氧化石墨烯进行还原反应,还原除去氧化石墨烯表面的含氧基团,恢复二维结构石墨烯。
优点:氧化还原法可以大量、高效地制备出高质量的石墨烯,过程相对简单。
㈡ 石墨烯的生产方法有哪些
石墨烯的合成方法主要有两种:物理方法和化学方法。物理方法是从具有高晶格完备性的石墨或者类似的材料来获得,获得的石墨烯都在80nm以上.而化学方法是通过小分子的合成或溶液分离的方法制备的,得到的石墨烯尺寸在10nm以下. 其中物理方法包括:机械分离法,取向附生法和加热SiC的方法、爆炸法;化学方法包括石墨插层法、热膨胀剥离法、电化学法、化学气相沉积法、氧化石墨还原法、球磨法。微机械分离法,最普通的是微机械分离法,直接将石墨烯薄片从较大的晶体上剪裁下来。2004年Novoselovt等用这种方法制备出了单层石墨烯,并可以在外界环境下稳定存在。典型制备方法是用另外一种材料膨化或者引入缺陷的热解石墨进行摩擦,体相石墨的表面会产生絮片状的晶体,在这些絮片状的晶体中含有单层的石墨烯。取向附生法—晶膜生长,是利用生长基质原子结构“种”出石墨烯,首先让碳原子在1 1 5 0 ℃下渗入钌,然后冷却,冷却到850℃后,之前吸收的大量碳原子就会浮到钌表面,镜片形状的单层的碳原子“ 孤岛” 布满了整个基质表面,最终它们可长成完整的一层石 墨烯。第一层覆盖 8 0 %后,第二层开始生长。底层的石墨烯会与钌产生强烈的交互作用,而第二层后就几乎与钌完全分离,只剩下弱电耦合,得到的单层石墨烯薄片表现令人满意。
㈢ 石墨烯主要制备方法
1、微机械剥离法
方法:用光刻胶将其粘到玻璃衬底上,再用透明胶带反复撕揭,然后将多余的高定向热解石墨去除并将粘有微片的玻璃衬底放入丙酮溶液中进行超声,最后将单晶硅片放入丙酮溶剂中,利用范德华力或毛细管力将单层石墨烯“捞出”。
缺点:产物尺寸不易控制,无法可靠地制备出长度足够的石墨烯,不能满足工业化需求。
2、外延生长法
方法:在高温下加热SiC单晶体,使得SiC表面的Si原子被蒸发而脱离表面,剩下的C原子通过自组形式重构,从而得到基于SiC衬底的石墨烯。
缺点:对制备所需的sic晶面要求极高,而且在sic上生长的石墨烯难以剥离。
3、化学气相沉积法(CVD法)
方法:将碳氢化合物甲烷、乙醇等通入到高温加热的金属基底表面,反应持续一定时间后进行冷却,冷却过程中在基底表面便会形成数层或单层石墨烯。
缺点:制备所需条件苛刻,需要高温高真空。成本高,生长完成后需要腐蚀铜箔的到石墨烯。
㈣ 石墨烯是怎么提炼的
石墨烯分为石墨烯粉体和石墨烯薄膜两大类。常见的石墨粉体生产的方法为机械剥离法、氧化还原法、SiC外延生长法。石墨烯薄膜生产方法为化学气相沉积法(CVD)。
1、机械剥离法
机械剥离法是利用物体与石墨烯之间的摩擦和相对运动,得到石墨烯薄层材料的方法。这种方法操作简单,得到的石墨烯通常保持着完整的晶体结构
2、氧化还原法
氧化还原法是通过使用硫酸、硝酸等化学试剂及高猛酸钾、双氧水等氧化剂将天然石墨氧化,增大石墨层之间的间距,在石墨层与层之间插入氧化物,制得氧化石墨。然后将反应物进行水洗,并对洗净后的固体进行低温干燥,制得氧化石墨。通过物理剥离、高温膨胀等方法对氧化石墨粉体进行剥离,制得氧化石墨烯。
最后通过化学法将氧化石墨烯还原,得到石墨烯。这种方法操作简单,产量高,但是产品质量较低 。氧化还原法使用硫酸、硝酸等强酸,以及使用大量的水进行清洗,带大较大的环境污染。
3、SiC外延法
SiC外延法是通过在超高真空的高温环境下,使硅原子升华脱离材料,剩下的C原子通过自组形式重构,从而得到基于SiC衬底的石墨烯。这种方法可以获得高质量的石墨烯,但是这种方法对设备要求较高。
石墨烯的应用:
1、传感器
石墨烯可以做成化学传感器,这个过程主要是通过石墨烯的表面吸附性能来完成的,根据部分学者的研究可知,石墨烯化学探测器的灵敏度可以与单分子检测的极限相比拟。 石墨烯独特的二维结构使它对周围的环境非常敏感。
石墨烯是电化学生物传感器的理想材料,石墨烯制成的传感器在医学上检测多巴胺、葡萄糖等具有良好的灵敏性。
2、晶体管
石墨烯可以用来制作晶体管,由于石墨烯结构的高度稳定性,这种晶体管在接近单个原子的尺度上依然能稳定地工作。相比之下,目前以硅为材料的晶体管在10纳米左右的尺度上就会失去稳定性;石墨烯中电子对外场的反应速度超快这一特点,又使得由它制成的晶体管可以达到极高的工作频率。
例如IBM公司在2010年2月就已宣布将石墨烯晶体管的工作频率提高到了100GHz,超过同等尺度的硅晶体管。
3、柔性显示屏
消费电子展上可弯曲屏幕备受瞩目,成为未来移动设备显示屏的发展趋势。柔性显示未来市场广阔,作为基础材料的石墨烯前景也被看好。韩国研究人员首次制造出了又多层石墨烯和玻璃纤维聚酯片基底组成的柔性透明显示屏。
韩国三星公司和成均馆大学的研究人员在一个63厘米宽的柔性透明玻璃纤维聚酯板上,制造出了一块电视机大小的纯石墨烯。他们表示,这是迄今为止“块头”最大的石墨烯块。随后,他们用该石墨烯块制造出了一块柔性触摸屏。研究人员表示,从理论上来讲,人们可以卷起智能手机,然后像铅笔一样将其别在而后。
㈤ 石墨烯是用什么方法制备出来的
石墨烯的制备方法有很多,如微机械分离法:这类方法是通过机械力从石墨晶体的表面剥离出石墨烯片层。Novoselov(诺奖得主,石墨烯发现者)即是采用这种办法来制备石墨烯,该研究首先利用氧等离子体的刻蚀作用.在厚度为Imm的高定向热解石墨的表面得到多个深度为5um的平台,再将刻蚀过的表面固定于光阻材料的平面上,将除平台以外的石墨结构去除。然后,研究人员用透明胶带反复地从己固定的平台上剥离石墨片层,直至该平面上剩下较薄的片层为止,并将其分散于丙酮溶液当中。再将表面为SiOz薄膜的硅基片于该溶液中浸渍片刻并超声洗涤,一些厚度小于10 nm的石墨片层在范德华力或毛细作用下紧密地固定在硅基片上。考虑石墨烯特殊的光学特性,研究人员使用了光学显微镜、扫描电子显微镜和原子力显微镜的联合表征手段,从而清晰的观测到了多层和单层石墨烯的存在。
其他的方法还有: 氧化石墨还原法; 外延生长法; 化学气相沉积法(CVD); 电化学方法;爆炸法;石墨插层法;取向附生法;热膨胀剥离法;球磨法