安美特快镀铬分析方法

⑴ 镀铬添加剂的成分有哪些危险性

1，镀铬添加剂的成分主要为氟化物、溴化物、碘化物等。,
2，危险性：
对人的粘模及皮肤有刺激和灼烧作用、并导致伤、接触性皮炎。这些化合物以蒸气或粉尘方式进入人体，均会引中鼻中隔穿孔、肠胃疾患、白血球下降、类似哮喘的肺部病变。皮肤接触铬化物，可引起愈合极慢的“铬疮”，当空气中铬酸酐的浓度达0.15～0.31毫克/立方米时就可使鼻中隔穿孔。铬为皮肤变态反应原，可引起过敏性皮炎或湿疹，病程长，久而不愈。

。铬对人体的毒害有全身中毒，对皮肤粘膜的刺激作用，引起皮炎、湿疹、气管炎、鼻炎和变态反应。

⑵ 镀铬添加剂的作用原理

镀铬添加剂种类繁多，按其功能分类如下：
4.1 替代部分H2SO4的添加剂—有机磺酸
有机磺酸分子结构R—SO3H，与H2SO4相似，碳原子数少于3的甲基磺酸，乙基磺酸都是优良的镀铬催化剂，烷基磺酸用量为1g/L-5g/L,占CrO3含量的1%—2%。
有机磺酸与H2CrO4反应后，生成与硫酸铬酰类似的极性分子，生成物是有机磺酸铬酰。在有机磺酸铬酰分子中，甲基、乙基、丙基等饱和烃基都是斥电子基因，使Cr-O-S间电子云密度提高，键加强了。键不容易断裂，整个有机磺酸铬酰分子变得不易水解，提高了稳定性，因而提高了镀铬时的电流效率。
氨基磺酸，磺基乙酸虽然也含有磺酸基因，但是，氨基、乙酸基是吸电子基团，能使Cr-O-S间电子云密度降低，键被削弱了，会降低有机磺酸铬酰的稳定性，因而它们是较差的催化剂，其使用量也比较大，NH2SO3H/CrO3要大于1/10，磺基乙酸/ CrO3要大于1/3以上，才能提高催化能力，至于羟乙基磺酸，羟丙基磺酸，苯磺酸，丙炔基磺酸都含有吸电子基因（吸电子基因为羟基，苯基，丙炔基），同样会降低有机磺酸铬酰的稳定性，所以也是较差的催化剂。
硒酸H2SeO4与H2SO4性质相似，催化能力相近，都可得到光亮的Cr-Se合金，但镀层内应力大仅适用于微裂纹铬。
4.2 替代F-的添加剂—卤化物及卤酸盐
HF,H2SiF6,HBF4,H3AIF6,H2TiF6等是第3代复合镀铬添加剂，优点是电流效率较高，覆盖能力较好，缺点是单独使用镀层粗糙发暗黑，对阳极对镀件都有腐蚀，镀液容易积累杂质金属离子而使性能恶化，所以人们致力于寻找替代F-的添加剂。
卤族元素化合物是首先考虑的，可提高镀铬效率，其中Cl-镀液的电流效率最高。但是，卤素离子对阳离子对镀件均有较强的腐蚀性，容易被阳极氧化为卤气挥发掉，消耗快，单独做催化剂时，得到的铬镀层呈浅灰色，内应力大有脆性，不能全部取代H2SO4需要与H2SO4联合使用。
HF,，HCl同样能与H2CrO4反应，生成氟化铬酰，氯化铬酰。卤原子具有吸电子诱导效应，同时，其P电子与铬氧双键能发生Pπ共轭效应，Pπ共轭效应大于诱导效应，使Cr-F键，Cr-Cl键加强，增强了氟化铬酰，氯化铬酰的稳定性，加上两者分子体积小，容易迁移到阴极表面，所以能提高电流效率。Br- 、I-能与H2CrO4发生氧化还原反应，生成单质Br2，I2挥发掉，几乎没有催化效果。IO3-的作用则是活化镀层表面，避免了低电流区不能正常析铬的现象。ClO4-被阴极还原为Cl-能起到催化作用。
用H2SiF6,HBF4,H3AIF6,H2TiF6做催化剂时，电流效率要高于HF做催化剂时的电流效率，腐蚀性小于HF催化剂,。它们究竟是先转化为HF后与H2CrO4反应的，还是直接与H2CrO4反应的？需要进一步研究。
卤代羧酸是新型的镀铬催化剂，在镀液中会水解出CI-、F-，具有较高的电流效率，能提高镀液的覆盖能力和分散能力。卤代羧酸水解产物卤离子和羧酸，都能使铬镀层发灰（早期的镀黑铬是Siemens用醋酸做催化剂的）外观不好。这也可能是低浓度镀铬不呈银白色而是青白色的原因。卤代羧酸的另一个重要作用是缓冲阴极界面PH值。
从键能看，C-F键比C-Cl键键能大许多，不容易断裂氧化分解，氟碳型化合物是稳定的，氟代羧酸要比氯代羧酸稳定的多。铬雾抑制剂就是氟碳型化合物。C-Br键，C-I键键能更小，容易断裂分解，因而溴代、碘代羧酸是不稳定的，不适合做镀铬添加剂。
4.3 替代H3BO3的添加剂—羧酸类
采用羧酸类及取代羧酸类的添加剂很多，甲醛，乙二醛可被强氧化性镀液氧化为甲酸，乙二酸，卤代羧酸和酰胺类可以水解为羧酸、氢卤酸、铵离子，吡啶羧酸可视为具有环状结构的特殊氨基酸，都可归为羧酸类添加剂。
饱和一元羧酸属于弱酸，电离常数很小，能够缓冲阴极界面PH值。卤代羧酸，醇酸，酚酸，氨基酸，吡啶羧酸均含有吸电子基因，能促使羧酸的电离，使电离常数增大，缓冲范围向低PH值发展。
乙酸被氯取代后，由于氯原子较强的吸电子诱导效应，使得羧基电子云密度按箭头所指的方向转移，其结果是O-H间电子密度降低，羧基中氢更容易以质子的形式电离，所以，一氯乙酸比乙酸性强，卤代酸的酸性随卤原子数的增加而加强。三氯乙酸的酸性几乎与无机酸相当。
卤原子的电负性不同，对酸性的影响也不同，卤原子的电负性顺序为F大于CI大于Br大于I
因此，不同的卤代乙酸的酸性以氟代乙酸为最强，一氟乙酸P=2.66.
镀铬溶液中Cr3+浓度约0.1mol/l，形成沉淀的PH值在4左右，为防止阴极界面沉淀的生成，要求缓冲剂的最佳范围是PH小于4，大多数羧酸的Pka在2.5-5之间，缓冲范围为Pka左右，所以，选用羧酸类做缓冲剂是合理的，而H3BO3的Pka=9.24,最佳缓冲范围是8.24-10.24，显然不太合乎要求，硼酸被羧酸类代替是必然的。
缓冲容量的大小与缓冲溶液的总浓度及组分比有关，总浓度愈大，缓冲容量愈大；总浓度一定时，缓冲组分的浓度比愈接近1:1，缓冲容量愈大；当PH=Pka时，缓冲容量最大。
在许多缓冲体系中，总有一个ka值在起作用，其缓冲范围一般都比较窄。为使同一缓冲体系能在较广泛的PH值范围内起缓冲作用，可用多元弱酸或弱碱组成缓冲体系。因为其中有多个ka值起作用。例如柠檬酸。第3代镀铬添加剂就是将不同Pka的几种羧酸配合剂搭配的应用的，目的就在于更广泛的PH值范围内起缓冲作用。
普通一元、二元羧酸可尽量加大浓度，以使缓冲容量最大。用醋酸、氨基乙酸做添加剂时，用量要求比较大；用卤代羧酸，磺基羧酸，羟基羧酸做添加剂时，用量为几十克/升，上百克/升。
采用同多酸或杂多酸做添加剂时，提高电流效率的作用不明显。可以认为它们不是催化剂，而是缓冲剂。
4.4 代替Cr3+的添加剂—稀土类
Cr3+的存在有利于改善镀铬溶液的分散能力，促进低电流密度区的电沉积。缺少铬层易结瘤，硬度低，电沉积速度慢。稀土元素RE一般呈三价，在镀液中能代替部分Cr3+，因此，稀土镀铬要求Cr3+含量低，不含也可以。稀土镀铬机理已经发表不少文章，这里就不累赘阐述了。
羟基酸包括醇酸和酚酸，用量小还原性强，能产生Cr3+，也是代替Cr3+的添加剂。n也报道使用溴化物，可以有效改善镀液分散能力，但由于存在着释放大量卤素气体的缺陷，阻碍了这类镀液的推广应用。
稀土阳离子也是应用很广的一类镀铬添加剂，最早将稀土引入镀铬的是美国的 Romanowshi 等。他们在1976年获得了使用稀土氟化物镀铬的专利，国内于80～90年代对这方面进行了大量研究，开发出一批比较有价值的工艺。稀土阳离子能较好地提高镀液的均镀能力，但对深镀能力无明显的改善，使用稀土的氟化物可以提高电流效率，但也同时引发了低电流区的腐蚀问题，另外稀土镀铬监控比较困难，特别是在镀硬镀方面，该工艺还有待进一步完善。
真正比较有希望全面改进镀铬性能的是有机或复合型(有机物与阴离子或稀土混用)添加剂。
许多人一直认为，在氧化性很强的铬酸溶液中，尤其是在电解过程中，几乎没有什么有机物可以稳定存在，因此限制了这类添加剂的发展。但 Edgan J提出使用卤化有机酸，特别是卤化有机二酸如溴化丁二酸、溴化丙二酸等，可以提高镀液的分散及覆盖能力，据称此电解液即使在高温、高电流密度下电解，有机物也不会被氧化。北京航空航天大学胡如南等也进行了相似的工作，并得出了类似的结论。
为了达到预期的目的，加入的有机酸或卤代有机酸的量比较大，一般为几十克每升，例如 Chessin在含氟化物的镀铬液中，加入最高量为32 g/L的卤代二酸，使镀液获得了好的分散及覆盖能力。
有机化合物的加入可以提高阴极电流效率。Hyman Chessin采用有机磺酸为添加剂，以较高的电流效率(大于22%)获得了结合力良好的光亮镀层，并避免了低电流腐蚀问题，添加的有机磺酸要求S/C≥1/3，加入量为1～18 g/L。
Anthony D Barnyi提出，适量的氨基乙酸、氨基丙酸等可以提高阴极电流效率，如在CrO3 200 g/L,H2SO4 2 g/L的镀液中加入2.5 g/L的氨基乙酸，在40 ℃下电镀2 h，阴极电流效率可达21.45%。
另外含有机添加剂的镀液所得镀层一般硬度较高。Laition在含甲醛、甲酸或乙二醛的镀液中，得到的镀层硬度为950～ 1 000 HV，经 600 ℃热处理1 h，硬度可达1 600～1 800 HV，并且镀层耐盐腐蚀的能力是普通铬镀层的3倍。
将有机阴离子与有机添加剂复合使用，有时会取得很好的效果。Chessin将碘酸钾、溴化钾等与有机酸一起合用，得到平滑光亮的镀层，并且电流效率很高，比较好的有机酸为磺基乙酸、丁二酸、三氯乙酸等，且用量较大，为5～100 g/L。在适当工艺下，阴极电流效率可达50%，不足之处为铬酸浓度高达800 g/L，并且有机酸含量高，易腐蚀阴极。
美国安美特公司的专利产品也含有复合型添加剂，由磺基乙酸、碘酸盐及有机氮化物组成，镀液可不含H2SO4，阴极电流效率至少为20%。
采用有机或复合添加剂的镀铬液一般称为第三代镀铬液，目前已经有数种比较成熟的工艺。美国安美特公司的 HEEF25， HEEF40工艺比较有代表性。特别是 HEEF25，电流效率可达 22%～26%，沉积速度为30～80 μm/h，镀层光亮平滑。其工艺优点在于电流效率高，沉积速度快，且不含氟化物。但其成本较高，在一定程度上会影响其推广应用。英国 Canning 公司的 Machil 工艺特点与HEEF25相当，阴极电流效率可达26%，镀层硬度高于1 200 HV，且同样不含氟化物。国内有关有机添加剂方面的研究报导较少，北京航空航天大学和山西大学进行过一些研究。据资料介绍目前国内至少有五家单位提供了类似于HEEF25的镀硬铬工艺。
最新一代镀铬添加剂主要采用烷基二磺酸及其盐，包括甲基二磺酸、甲基二磺酸钠、甲基二磺酸钾等为添加剂的主要成分，完全不同于常规镀铬和普通混合型催化剂镀铬工艺，具有以下特点：1.高电流效率，可达23-29% 2.高沉积速度，是普通镀铬的2-3倍3.高硬度HV900-1150 4.高电流密度可达90安培/平方分米5.对铅锡、铅锑合金阳极腐蚀很小，对镀件在低电流区无腐蚀。一般添加量约为4-10g/L, 每添加100公斤铬酸酐同时消耗量8-15g烷基二磺酸及其盐。
在此基础上，很多添加剂厂商和研究部门以烷基二磺酸及其盐为主要成分，添加有机物氨基磺酸、含氮杂环化合物等以及无机添加物碘酸钾，溴酸钾等等，等到了电流效率27-50%,硬度Hv900-1250的镀铬层，将镀铬工艺向前推进了一大步。
总之，在有机添加剂的开发方面还有许多工作有待于表面处理工作者们去做。

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⑷ 镀铬常见故障及处理

电镀是制造业不可或缺的基础工艺。电镀生产中发生不良在所难免，不良现象频发会影响生产进度和产品合格率，造成经济损失。排除不良是电镀技术人员管理的重要内容，以下针对*基础不良现象与原因分析。

1．镀层结合力不好

结合力不好一般有下列几种情况：

(1)底层结合力不好，该情况大都是前处理不良、基体金属上的油污或氧化膜未除尽造成的。

(2)打底镀层成份控制不当，如碱铜中铜与游离氰比例不当，有六价铬污染等。

(3)前处理工序中的表面活性剂黏附在基体表面未清洗干净。

(4)腐蚀过度，有些工厂除锈酸的浓度高或不加缓蚀剂也会造成结合力不佳。

2．镀层脆性大

造成脆性的*大原因是镀液中有机杂质或有机添加剂过多所致。有的技术操作人员把添加剂看作是*灵药，镀层一有问题就加添加剂。添加剂比例失调或超过允许上限就会造成镀层脆性。另外，pH值不正常和重金属离子对镀液的污染，也会造成脆性。

镀层脆性与结合力不好有时很难区别。一般可这样区别：：结合力不好的镀层，能从基体金属上成片撕下，弯曲时镀层不会成粒屑飞出，薄型镀件无嘶嘶声；有脆性的镀层，剥落时镀层不能成片撕下，弯曲时镀层成粒屑飞出，薄型镀件有嘶嘶声。

3．针孔

针孔在镀亮镍及光亮酸铜中*多见，通常见到的针孔有下列三种情况：

(1)因析氢造成的针孔是锥形的。

(2)因油污和有机杂质造成的针孔是细密不规则的。

(3)基体金属的小凹点所造成的针孔无规则，如苍蝇脚趾，很难认定，须经试验和观看基体表面才能确定。

4．毛刺

与针孔不同，可用湿纸揩擦故障处，如故障表面沾有纸屑的是毛刺，不沾纸屑的是针孔。造成毛刺的主要原因是固体杂质。

(1)镀件本身带入镀液的固体杂质，如铁屑；先涂漆后电镀时，漆膜腐蚀下来的漆粒。

(2)外界混入或阳极溶解时带入的固体杂质。建议阳极必须用阳极袋包扎。

5．发花

发花主要是有机杂质多，镀液成分、光亮剂及表面活性剂(如十二烷基硫酸钠)等比例失调造成的。同时，镀液中沾有杂质或镀前上道工序清洗不良也会造成发花。

6．泛点

碱性镀液残留在基体金属细孔内易于造成泛点，如碱性镀锌、碱性镀锡等。对于某些含有机物较多的镀液也会造成泛点，如氯化物镀锌、酸性镀锡。另外，三价铬蓝白钝化镀后清洗不干净以及水质不好都会造成泛点。有些工厂采取一些方法解决泛点，如碱性镀锌采用柠檬酸中和，酸性镀锡采用磷酸三钠，镀锌钝化用水溶性封闭剂，均能取得一些效果。

7．烧焦发黑

造成烧焦发黑的原因可能有下列几种：

(1)电流密度太大。

(2)温度不在工艺范围内。

(3)镀液中主盐的浓度太低。

(4)添加剂比例失调。

(5)镀铬槽电流波形有问题。

8．低电流密度区（低电位）不亮

造成低电流密度区不亮的原因可能有下列几种：

(1)镀液中金属杂质污染，如镀镍中铜、锌、铅杂质的污染。

(2)光亮剂比例失调或光亮剂的质量存在问题。

(3)挂具接触不良或挂具使用时间较长。

(4)电流密度不在工艺范围内。

以上8点是电镀中常见与常发的不良现象

⑸ 如何配制镀镍镀铜镀铬的电解液有何计算工式

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⑹ 镀铬技术的要求是什么

电镀工艺技术

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1、不烘烤防爆热镀锌
2、彩色镀铬
3、长金属管内孔表面化学镀镍磷工艺
4、超声快速热浸镀
5、瓷砖表面镀覆贵金属的方法
6、大面积一次性精确刷镀技术
7、单槽法镀多层镍工艺
8、低浓度常温镀(微孔)铬添加剂及其应用工艺
9、低碳钢丝快速酸性光亮镀铜工艺
10、低温镀铁加离子轰击扩渗强化技术
11、电镀锡铋合金镀液及其制备方法
12、电解活化助镀剂法热镀铝锌合金工艺
13、电炉锌粉机械镀锌工艺
14、电刷镀法刷镀铅—锡—铜减磨耐磨层的镀液
15、电刷镀阳极
16、镀铬废槽液浓缩熔融除杂回收法
17、镀铬废水废渣提铬除毒法
18、镀铬废水中铬的回收方法
19、镀铝薄膜的常温快速阳极氧化技术
20、镀镍溶液及镀镍方法
21、镀镍溶液杂质专用处理剂
22、镀铜合金及其生产方法
23、镀铜添加剂及其制备方法和在焊丝镀铜中的应用
24、镀锌钢件表面附着有色镀层的方法
25、镀锌光亮剂主剂及用其组成的光亮剂
26、镀锌基合金的钢板的铬酸盐处理方法
27、镀锌件表面化学着黑剂
28、镀锌喷塑双层卷焊管的生产工艺、设备及产品
29、镀锌三价铬白色钝化液
30、镀锌添加剂的合成与应用工艺
31、镀银浴及使用该镀银浴的镀银方法
32、钝化法热浸镀铝及铝合金工艺
33、多层镍铁合金复合涂镀工艺
34、多稀土系列镀铬添加剂及制造工艺
35、防治镀铬电解液雾化的方法
36、非金属流液镀铜法
37、粉镀(渗)锌方法及装置
38、复合机械镀铝锌工艺
39、复合渗镀方法
40、干湿法热镀铝锌合金工艺
41、钢材和铸铁件的热浸镀铝新工艺
42、钢材热浸镀铝工艺
43、钢材热浸镀锌铝系合金用水溶性助镀剂
44、钢材热浸镀用稀土铝合金
45、钢管外表面连续热镀铝方法
46、钢丝的高耐蚀性的双浸热镀工艺
47、钢铁件光亮酸性镀铜前的预镀工艺
48、钢铁件光亮酸性镀铜前的预镀工艺 2
49、钢铁热浸镀铝锌合金工艺
50、钢铁制品表面粉镀锌剂
51、钢制品镀膜前净洗工艺
52、高堆积镍刷镀溶液
53、高堆积镍刷镀溶液及其刷镀工艺
54、高能级磁控溅射离子镀技术
55、高效刷镀耐磨铬溶液
56、高致密度和高耐蚀性的化学镍磷镀膜工艺
57、工件刷镀表面活化方法
58、工作时无排水电镀工艺
59、工作物热浸镀锡的加工方法
60、钴－镍－磷非晶合金镀液和镀层
61、光敏剂诱导的化学镀镍方法及其所用镀液
62、焊丝镀铜高防锈处理工艺
63、合金镀液及其制法
64、化学镀镍铬磷非晶态合金的溶液及其镀覆方法
65、化学镀镍－磷合金镀液及化学镀工艺
66、化学镀铜及其镀浴
67、化学喷镀镍专用浓缩液的配制及其使用方法
68、化学性质不稳定金属工件表面化学镀镍工艺
69、环保型高深镀能力镀锌液
70、灰口铸铁件铸造-热镀锌同步工艺
71、回收镀金属废水,制造水处理剂的方法
72、活塞环表面复合镀工艺
73、机械镀锌快速活化工艺
74、冀形管热镀锌工艺和装置
75、碱性镀液电镀锌－镍合金工艺
76、碱性锌镍镀浴
77、碱性元素电解镀铜液
78、胶体膏状复合刷镀液
79、金刚石镀钛工艺
80、金属表面镀覆光亮和高耐蚀性合金层的镀液和方法
81、金属表面高温超声浸镀方法
82、金属材料表面化学镀镍方法
83、金属材料表面化学镀镍再套镀硬铬的方法
84、金属长管内表面化学镀的方法
85、金属镀液及其制造方法
86、金属工件表面镀渗金刚石工艺
87、金属结构的假牙电刷镀工艺
88、金属熔融镀槽中辊轴的表面处理方法
89、聚氯乙烯塑料硬片镀铝方法
90、绝缘瓷套低温自催化镀镍镀铜工艺
91、快速镀镍光亮剂、制造及其应用
92、快速滚镀镍铁合金的电镀液及方法
93、宽温低铬酐镀铬添加剂
94、矿山液压支柱镀锌镍合金纯化工艺
95、离子镀膜前工件处理工艺及除油、去污清洗剂
96、连续热镀锌机组沉没辊及稳定辊退锌溶液
97、量具的一种快速精确镀铬修复法
98、铝的粉末法可控渗镀
99、铝及铝合金的镀前处理方法
100、铝型材镀钛金工艺
101、氯化钾镀锌液添加剂的制造方法
102、内画镀银工艺品及制作方法
103、纳米烘镀锌及制作方法
104、钠盐镀锌极低铬二次钝化配方及工艺
105、难焊金属的预刷镀钎焊法
106、尼丝纺镀铝方法
107、镍基合金粉的表面化学镀镍方法
108、屏蔽法局部镀银
109、普通玻璃真空镀铜合金制茶镜工艺
110、气缸套筒内腔镀铬工艺
111、青铜镀液及其制备工艺
112、清除镀锌体表面锈斑的方法
113、氰化镀银溶液无氰转化方法
114、热镀锌碳化硅槽及附属设备
115、热镀锌锌渣的再生新工艺
116、热镀锌中间合金复合添加剂
117、热镀锌助镀剂
118、热浸镀铝用水溶性助镀剂
119、热浸镀铝用药品后处理剂
120、热侵镀锌合金及其制造方法
121、上加热镀锌法
122、深孔定尺寸镀铬装置及工艺方法
123、刷镀铁基组合镀层的镀液
124、塑料表面镀铜提高与树脂和金属粘接强度的方法
125、缩二脲无氰碱性镀铜方法
126、碳纤维均匀镀铜工艺
127、提高电刷镀构件疲劳寿命的方法
128、铁基置换法镀铜施镀助剂
129、铁锰合金镀液及施镀工件的方法
130、铁氧体音频磁头光亮镀镍工艺
131、铜或铜合金非电镀镀锡的方法
132、铜或铜合金室温镀锡工艺
133、铜线镀锡工艺
134、无电解镀液的再生方法
135、无电流沉积金的含水镀液配套液及其应用
136、无刻蚀低温铁、镍、锰、钛合金镀电解液
137、无刻蚀低温铁锰合金镀电解液
138、无刻蚀镀铁镀液的配制及维护方法
139、无刻蚀镀铁工艺镀液长期稳定的条件
140、无氰镀金液和笔内电源镀金笔的生产方法
141、无氰镀铜锡合金电解液
142、无氰镀铜液及无氰镀铜方法
143、无氰连续镀铜生产技术
144、稀铬酸溶液在电解退镀中的应用
145、稀土低温镀镍催化剂
146、锡－铋合金镀浴及使用该镀浴的电镀方法
147、锡镍合金退镀液
148、锡退镀液的制备及应用
149、锌锡合金镀液及其制备工艺
150、新型反光装饰材料镀膜技术
151、新型热浸镀用复合稀土盐助镀溶剂
152、新型稀土锌铝合金镀层材料及其热浸镀工艺
153、一种超大型水泥表面镀铜的方法
154、一种超微氰镀锌光亮剂及其制作方法
155、一种低温铁合金电镀方法及其镀液
156、一种镀铬件保护剂的制造方法
157、一种镀铬老化液再生的方法
158、一种镀铬添加剂及其应用工艺
159、一种镀纳米氧化锌膜层的玻璃
160、一种镀三价铬镀液
161、一种镀通孔的无甲醛电解厚铜制造方法
162、一种镀氧化锌膜层的玻璃
163、一种镀液添加剂及其在锡-铅合金镀中的应用
164、一种多功能碱性镀锌光亮剂及其制备方法
165、一种粉末镀银镀料及其配制工艺
166、一种钢铁表面离子镀固体润滑膜的方法
167、一种高镍基合金钢镀厚银工艺
168、一种光亮镀锡-锌合金电镀溶液
169、一种环保型金属合金镀液
170、一种环保型微晶合金镀液
171、一种机械镀锌工艺
172、一种加厚镀铬工艺
173、一种碱性镀锌光亮剂的制备方法
174、一种金属线材光亮镀锌工艺
175、一种可锻铸铁管件的镀锌方法及其专用设备
176、一种内覆不锈钢的镀锌水管的制造方法
177、一种纳米复合镀浆料及其制备和电镀方法
178、一种镍磷合金非晶镀方法

⑺ 镀铬是什么

铬是一种微带蓝色的亮白色金属，通过电解或化学方法在金属或某些非金属上镀上一层铬的方法，称为镀铬。金属铬在空气中极易钝化，表面形成一层极薄的钝化膜，从而显示出贵金属的性质。

镀铬有两种，第一种是起装饰作用，外表光亮、耐磨擦性能较好，防锈能力不如镀锌，优于氧化。第二种是增加金属零件的硬度、耐磨性等，这是零件的功能性。

镀铬常应用于家电、电子等产品上的的光亮装饰件，工具，水龙头等。

(7)安美特快镀铬分析方法扩展阅读：

铬镀新发展

铬镀层由于具有一系列优良的性能而得到广泛的应用，特别是随着机械制造业的发展， 铬镀层的用量越来越大。但是传统的镀铬工艺使用的电解液都由剧毒的铬酐配制。

据报道，在镀铬过程中约有三分之二的铬酐消耗在废水或废气中，只有三分之一左右的铬酐用于铬镀层上。大量的废水和废气对环境造成了严重污染。

多年来，尽管加强了对含铬废水的回收和处理，但未得到根本解决，另外传统的镀铬工艺还存在不少缺点。针对上述存在的问题，广大电镀工作者对镀铬工艺做了大量的研究工作。

参考资料来源：网络-镀铬

⑻ 镀铬的工艺要求

镀铬的工艺要求有许多点，以下是一一列举：

⑴防护一装饰性镀铬
防护一装饰性镀铬不仅要求镀层在大气中具有很好的耐蚀性，而且要有美丽的外观。
这类镀层也常用于非金属材料的电镀。
防护一装饰性镀铬可分为一般防护装饰镀铬与高耐蚀性防护装饰镀铬。表4—28列出防护装饰性镀铬的工艺规范。
装饰性镀铬的工艺条件也取决于欲镀的基体金属材料。可根据基体材料的不同适当调整工作温度和阴极电流密度。
1）一般防护装饰性镀铬
一般防护装饰性镀铬采用中、高浓度的普通镀铬液，适用于室内环境使用的产品。钢铁、锌合金和铝合金镀铬必须采用多层体系，主要工艺流程如下。
①钢铁基体铜/镍/铬体系工艺流程为：
除油→水洗→浸蚀→水洗→闪镀氰铜或闪镀镍→水洗→酸铜→水洗→亮镍→水洗→镀铬→水洗干燥。
表4-28 防护装饰性镀铬的工艺规范
多层镍/铬体系工艺流程为：
除油→水洗→浸蚀→水洗→镀半光亮镍→水洗→光亮镍→水洗→镀铬→水洗→干燥。
↓ ↑
高硫冲击镍 (1μm)
②锌合金基体弱碱化学除油→水洗→浸稀氢氟酸→水洗→电解除油→水洗→闪镀氰铜→水洗→光亮镀铜→光亮镍→水洗→镀铬→水洗→干燥。
③铝及铝合金基体 弱碱除油→水洗→电解除油→水洗→次浸锌→溶解浸锌层→水洗一二次浸锌→水洗→闪镀氰铜（或预镀镍） →水洗→光亮镀铜→水洗→光亮镀镍→水洗→镀铬→水洗→干燥。
2）高耐蚀装饰性镀铬
高耐蚀装饰性镀铬是采用特殊工艺改变镀铬层的结构，从而提高镀层的耐蚀性，该镀层适用于室外条件要求苛刻的场合。
在防护装饰性镀铬体系中，多层镍的应用显着提高了镀层的耐蚀性，研究发现，镍、铬层的耐蚀性不仅与镍层的性质及厚度有关，同时在很大程度上还取决于铬层的结构特征。从标准镀铬溶液中得到的普通防护装饰性镀铬层虽只有0．25～0．5μm，但镀层的内应力很大，．使镀层出现不均匀的粗裂纹。在腐蚀介质中铬镀层是阴极，裂纹处的底层是阳极，因此，遭受腐蚀的总是裂纹处的底层或基体金属。由于裂纹处暴露出的底层金属面积与镀铬层面积相比很小，因而腐蚀电流密度很大，腐蚀速度很快，而且腐蚀一直向纵深发展。由于裂
纹不可避免，如果改变微裂纹的结构，使腐蚀分散，那么就可减缓腐蚀。在此构思下，20世纪60年代中期开发出了高耐蚀性的微裂纹铬和微孔铬新工艺。这两种铬统称为“微不连续铬”由于形成的铬层具有众多的微孔和微裂纹，暴露出来的镀镍面积增大但又很分散，使镍层表}面上的腐蚀电流密度大大降低，腐蚀速度也大为减缓，从而提高了组合镀层的耐蚀性，并且使镍层的厚度减小5μm左右。
①微裂纹铬在光亮镀镍层上施镀一层0．5～3μm高应力镍，再镀0．25μm普通装饰铬，由于高应力镍层的内应力和铬层内应力相叠加，就能在每平方厘米上获得250～1500条{分布均匀的网状微裂纹铬。
研究发现，普通镀铬电解液中加入少量的seO42-，可得到内应力很大的镀铬层。在添加seO42-的镀液中得到的铬镀层带有蓝色。SeO42-含量越高，镀层的蓝色越重。
采用双层镀铬法也可获得微裂纹铬镀层。工艺为先镀覆一层覆盖力好的铬镀层，然后在含氟化物的镀铬溶液中镀覆一层微裂纹铬层。双层法电镀微裂纹铬镀层的工艺见表4—28。，双层法的缺点是需要增加设备，电镀时间长，电能消耗多。故目前已用单层微裂纹铬代替，{但单层微裂纹铬也存在氟化物分析困难及微裂纹分布不均等缺点。
②微孔铬 目前使用最多的电镀微孔铬的方法是在光亮镀镍上镀覆厚度不超过0．5μm的镍基复合镀层（镍封闭），再镀光亮铬层，便得到微孔铬层。
镍基复合镀层中均匀弥散的不导电微粒粒径在0．5μm以下，在镀液中的悬浮量为50～lO0g/L，微粒在复合镀层中含量为2%～3%。常用的微粒有硫酸盐、硅酸盐、氧化物、氮化物和碳化物等。由于微粒不导电，在镀铬过程中微粒上没有电流通过，其上面也就没有金 属铬沉积，结果就形成了无数微小的孔隙，密度可达每平方厘米一万个以上。
3）防护装饰性电镀注意事项
①较大零件人槽前要通过热水冲洗预热，切勿在镀液中预热，否则会腐蚀高亮度的底层表面。
②小零件需采用滚镀铬工艺，滚镀铬镀液中应加入氟硅酸，防止零件滚镀时瞬间不接触导电而致表面钝化。
③零件带电入槽，对于复杂零件采用冲击电流，或增大阴、阳极距离。
④每一电镀层都要抛光，提高光洁程度，减少孔隙，防蚀。
⑤在镍上镀铬时，如镍钝化，可用酸浸法活化，然后镀铬。活化方法为：在30%～50%（体积分数）的盐酸中浸30～60s；在20%（体积分数）的硫酸中浸蚀约5min；在5%（体积分数）的硫酸中阴极处理l5s左右，再镀铬，就可得到结合力良好的镀铬层。
⑥电源宜采用全波整流。
⑦采用高浓度铬酐镀液时，可安装回收槽以节约铬酐，降低成本，减少废水处理量。
⑵滚镀铬
需要镀铬的细小零件，如采用通常的挂镀，不仅效率低，而且镀件上常留下夹具的痕迹，不能保证镀层的质量。滚镀铬多用于体积小、数量多、又难以悬挂零件的装饰性多层电镀，如铜/光亮镍/铬或光亮低锡青铜/铬。此法可提高生产效率、降低成本。但它只适用于形状简单、具有一定自重的镀件；不适用于扁平片状、自重小以及外观要求较高的零件电镀。
滚镀铬时应注意的事项如下：
①滚镀铬溶液用蒸馏水或去离子水配制，注意清洁，严防杂质带入，特别注意不要带人Cl一；
②硫酸根应控制适宜，不易过高，以免零件表面发黄或镀不上铬，过量的硫酸可用碳酸钡除去；’
③氟硅酸对镀层有活化作用，并能扩大光亮范围，不可缺少，也不宜过量；
④带电入槽，开始使用冲击电流，约l～2min即可；
⑤零件装入滚桶前，必须将桶内的铬酸液清洗净，以防零件被铬酸腐蚀发花；
⑥滚桶使用一段时间后，用盐酸处理，以除去滚桶网上的铬层；
⑦零件小，温度可稍低些，为避免镀液温度升高最好用冷却装置。
⑶镀硬铬
硬铬又称耐磨铬，硬铬镀层不仅要有一定的光泽，而且要求底层的硬度高、耐磨性好并与基体结合牢固。
镀层厚度应根据使用场合不同而异。在机械载荷较轻和一般性防护时，厚度为l0～20μm；在滑动载荷且压力不太大时，厚度为20～25μm；在机械应力较大和抗强腐蚀作用时，厚度高达l50～300μm；修复零件尺寸厚度可达800～1000μm。
耐磨镀铬一般采用铬酐浓度较低（Cr03150～200g/L）的镀液，有的工厂也采用标准镀铬液。工艺条件上宜采用较低温度和较高的阴极电流密度，应视零件的使用条件和对铬层的要求而定。表4—29列出了获得最大硬度镀铬层的适宜温度和电流密度关系。生产上一般采用温度为50～60℃（常用55℃）和25～75A/dm2（多数为50A/dm2）的阴极电流密度。工艺条件一经确定，在整个电沉积过程中，尽可能保持工艺条件的恒定，特别是温度，变化不要超过±1℃。
镀硬铬应注意如下问题。
①欲镀零件无论材质如何，只要工件较大，均需预热处理，因为镀硬铬时间较长，镀层较厚，内应力大且硬度高，而基体金属与铬的热膨胀系数差别较大。如不预热就施镀，基体金属容易受热膨胀而产生“暴皮”现象，预热时间根据工件大小而定。
②挂具用材料必须在热的铬酸溶液中不溶解，也不发生其他化学作用。夹具还应有足够的截面积，且与导电部件接触良好。否则因电流大，槽电压升高，局部过热。
应按照各种材料的导电率选择夹具的截面积，常见的几种材料允许使用电流为：紫铜——3A/mm2，黄铜——2．53A/mm2，钢铁——2A/mm2。
夹具结构应尽量采用焊接形式连接；夹具非工作部分应用聚氯乙烯塑料布或涂布耐酸胶绝缘。
③装挂时应考虑便于气体的逸出，防止“气袋”形成，造成局部无镀层或镀层厚度不均。
④复杂零件镀铬应采用象形阳极，圆柱形零件两端应加阴极保护，避免两端烧焦及中间镀层薄的现象；带有棱角、尖端的零件可用金属丝屏蔽。
⑤为提高镀层的结合力，可进行反电、大电流冲击及阶梯式给电。反电时间为0．5～3min，阴极电流密度为30～40A/dm2。大电流冲击为80～120A/dm2，时间为l～3min。
⑥对于易析氢的钢铁部件，应在镀后进行除氢处理。
⑷镀松孔铬
松孔铬镀层是具有一定疏密程度和深度网状沟纹的硬铬镀层，具有很好的储油能力。工作时，沟纹内储存的润滑油被挤出，溢流在工件表面上，由于毛细管作用，润滑油还可以沿着沟纹渗到整个工件表面，从而改善整个工件表面的润滑性能，降低摩擦系数，提高抗磨损性能。
获得松孔铬的方法有机械、化学或电化学法。
①机械法在欲镀铬零件表面用滚压工具将基体表面压成圆锥形或角锥形的小坑或相应地车削成沟槽，然后镀铬、研磨。此法简单，易于控制，但对润滑油的吸附性能不太理想。
②化学法利用镀铬层原有裂纹边缘具有较高活性的特点，在稀盐酸或热的稀硫酸中浸
蚀，裂纹边缘处的铬优先溶解，从而使裂纹加深加宽，达到松孔的目的。此法铬的损耗量大，溶解不均匀，质量不易控制。
③电化学法在镀硬铬后，经除氢、研磨后，再在碱液、铬酸、盐酸或硫酸中进行阳极松孔处理。由于铬层裂纹处的电位低于平面的电位，因此裂纹处的铬优先溶解，从而使裂纹加深加宽。处理后的松孔深度一般为0．O2～0．05μm。
阳极浸蚀时，裂纹的加深和加宽速度用通过的电量（浸蚀强度）来控制。在适宜的浸蚀强度范围内，可以选择任一阳极电流密度，只要相应地改变时间，仍可使浸蚀的强度不变。浸蚀强度根据镀铬层原来的厚度确定。厚度为l00μm以下的铬镀层，浸蚀强度为320A·min/dm2，厚度为l00～150μm的铬镀层，浸蚀强度为400A·min/dm2，150μm以上的铬镀层，浸蚀强度为480A·min/dm2。对于尺寸要求严格的松孔镀铬件，为控制尺寸，最好采用低电流密度进行阳极松孔；当要求网纹较密时，可采用稍高的阳极电流密度；当零件镀铬后经过研磨再阳极松孔时，浸蚀的强度应比上述数值减少（1/2）～（1/3）。
松孔铬层的网状裂纹密度取决于硬铬镀层原有裂纹密度。因此镀铬工艺对松孔镀铬的影响很大，必须严格控制。根据实践经验，采用表4-30所列工艺镀铬，可获得质量比较稳定的松孔铬镀层。
黑铬镀层在色
他化学和电化学方法获得的黑色覆盖层优越，因此在航空、汽车、仪器仪表等需要消光的装饰性镀层以及太阳能吸收层方面获得广泛应用。黑铬镀层的黑色是由镀层的物理结构所《致，它不是纯金属铬，而是铬和三氧化二铬的水合物组成，呈树枝状结构，金属铬以微粒形式弥散在铬的氧化物中，形成吸光中心，使镀层呈黑色。通常镀层中铬的氧化物含量越高，黑色越深。黑铬镀层的耐蚀性优于普通镀铬层。黑铬镀层硬度虽只有130～350HV，但耐磨性与普通镀铬层相当。黑铬镀层的热稳定性高，加热到480℃，外观无明显变化，与底层的结合力良好。电镀黑铬工
铬酐是镀液中的主要成分，其含量在150～400g/L范围内均可获得黑铬镀层。铬酐浓度低，镀液分散能力差；浓度高，虽然镀液的分散能力有所改善，但镀层的抗磨性能下降。一般在200～350g/L之间选用。
硝酸钠、醋酸是发黑剂，含量过低时，镀层不黑，镀液电导率低，槽电压高。浓度过高，镀液的深镀能力和分散能力差。通常硝酸钠控制在7～12g/L，醋酸控制在6～7g/L之间。在以硝酸钠为发黑剂的镀液中，没有硼酸时，镀层易起“浮灰”，尤其是在高电流密度下更为严重。加入硼酸可以减少“浮灰”。硼酸达到30g/L时，可以完全消除“浮灰”。硼酸的加入还可以提高镀液的深镀能力，并使镀层均匀。
镀液温度和阴极电流密度对黑铬镀层的色泽和镀液性能影响极大。最佳条件是低于25℃，电流密度大于40A/dm2。阴极电流密度过小，镀层呈灰黑色，甚至出现彩虹色；但也不宜过大，当大于80A/dm2时镀层易烧焦，而且镀液升温严重；当温度高于40℃时，镀层表面产生灰绿色浮灰，镀液深镀能力降低。因此，在电镀黑铬的过程中，必须采取降温措施。SO42-和cl一在镀黑铬电解液中都是有害杂质，SO42-使镀层呈淡黄色而不黑，可用BaC03或Ba(OH)2沉淀除去；Cl一使镀层出现黄褐色浮灰，因此配制溶液时应使用去离子水，并且在生产过程中严格控制有害杂质的带人；挂具和阳极铜钩应镀锡保护。
黑铬镀层可以直接在铁、铜、镍和不锈钢上进行施镀，也可以先镀铜、镍或铜锡合金做底层以提高抗腐蚀性和耐磨性。对形状复杂的零件应使用辅助阳极，阳极材料采用含锡7%的铅锡合金或高密度石墨。
镀完黑铬的零件，烘干后进行喷漆或浸油处理，可以提高光泽性和抗腐蚀能力。
⑹镀乳白铬
乳白铬一般厚度在30～60μm，抗蚀性能良好，但硬度较低，光泽性差。镀乳白铬的工艺、镀前准备和镀后处理，基本与镀硬铬相同。其主要的不同点是：要求温度较高（65～75℃），阴极电流密度较低（25～30A/dm2）。

⑼ 电镀黑铬有哪几种方法

黑铬镀层与黑镍镀层比较起来，其耐蚀性、耐久性和对太阳能选择吸收性都要好。黑铬镀层的硬度虽低，为HVl30～350，但其耐磨性却与一般的镀铬层相仿。黑铬镀层不是纯粹的金属铬，而是无定形的氧化物结晶。据分析，其金属铬含量只占镀层的50％～75％左右，其余为铬的氧化物，其氧化物主要以三氧化二铬水合物形式存在(Cr203· xH2O)。文献中有一例分析黑铬镀层的化学成分，其结果为：
铬(Cr)56．1％、氮(N)0．4％、碳(c)0．1％、氢(H)1．25％、氧(O)>26．0％
黑铬镀层结晶疏松，呈现树枝状的结构，因此可以完全吸收光波而呈现出黑色。业已证明，随着太阳能的利用开发，黑铬镀层是所有黑色电镀层和涂层中选择性吸收最为优秀的。黑铬镀层吸收率 a和反射率y之比可大于10，因此它在太阳能吸收器、武器、光学仪器仪表和照相机上广为应用；由于黑色比较庄重，所以近来在汽车、日用轻工业品的装饰件等方面应用也越来越多。
黑铬镀层除铝外，对其他常用基体金属的结合力都很好。黑铬镀层的热稳定性高，加热到480℃外观不发生变化。黑铬镀层的耐蚀性虽优于普通镀铬层，但该镀层一般都需有基体的打底镀层，虽然在铜和黄铜基体上能直接镀黑铬，的确也有这样做的；我们避开电化学腐蚀不算，就是从物理因素考虑这样做也是不合理的；因为黑铬镀层与铜或黄铜的热膨胀系数差距很大，如果不用底镀层，则日久黑铬镀层就会开裂，并从基体上脱落下来。因此黑铬的抗蚀性主要还是取决于基体镀层的质量，较合理和较常用的底镀层为镀镍层。不锈钢镀黑铬也较多，但不锈钢由于表面是严重钝态的，所以不锈钢上镀黑铬，应该先在高氯化物的镀镍槽中镀冲击镍，如果黑铬层还有外表较光亮的要求，则还需镀上一层光亮镍层，然后在光亮镍镀层上再镀黑铬。
镀黑铬的配方很多，有硝酸钠型、醋酸型、氟化物型和钒酸型等。近年来出现了一些商品的添加剂，这些添加剂多是组合型的，添加起来比较方便，同时稳定性也较好。

⑽ 一般金属表层镀铬后和不锈钢看起来很像，有什么方法可以很快的辨别出哪是镀铬的哪是不锈钢的

用磁铁检测铁磁反应；或用尖利的物件在表面做表层划痕试验，镀铬会显露铜色的底色。