表面结构的测量和判定方法

1. 表面粗糙度测量方法

表面粗糙度测量方法：
1、比较法
比较法测量简便，使用于车间现场测量，常用于中等或较粗糙表面的测量。方法是将被测量表面与标有一定数值的粗糙度样板比较来确定被测表面粗糙度数值的方法。比较时可以采用的方法:Ra>1.6μm时用目测，Ra1.6~Ra0.4μm时用放大镜，Ra<0.4μm时用比较显微镜。
比较时要求样板的加工方法，加工纹理，加工方向，材料与被测零件表面相同。
2、触针法
利用针尖曲率半径为2微米左右的金刚石触针沿被测表面缓慢滑行，金刚石触针的上下位移量由电学式长度传感器转换为电信号，经放大、滤波、计算后由显示仪表指示出表面粗糙度数值，也可用记录器记录被测截面轮廓曲线。一般将仅能显示表面粗糙度数值的测量工具称为表面粗糙度测量仪，同时能记录表面轮廓曲线的称为表面粗糙度轮廓仪。这两种测量工具都有电子计算电路或电子计算机，它能自动计算出轮廓算术平均偏差Ra，微观不平度十点高度Rz，轮廓最大高度Ry和其他多种评定参数，测量效率高，适用于测量Ra为0.025～6.3微米的表面粗糙度。
3、光切法
双管显微镜测量表面粗糙度，可用作Ry与Rz参数评定，测量范围0.5~50。
4、干涉法
利用光波干涉原理(见平晶、激光测长技术)将被测表面的形状误差以干涉条纹图形显示出来，并利用放大倍数高（可达500倍）的显微镜将这些干涉条纹的微观部分放大后进行测量，以得出被测表面粗糙度。应用此法的表面粗糙度测量工具称为干涉显微镜。这种方法适用于测量Rz和Ry为0.025～0.8微米的表面粗糙度。
表面粗糙度(surfaceroughness)是指加工表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度。其两波峰或两波谷之间的距离（波距）很小（在1mm以下），它属于微观几何形状误差。表面粗糙度越小，则表面越光滑。表面粗糙度一般是由所采用的加工方法和其他因素所形成的，例如加工过程中刀具与零件表面间的摩擦、切屑分离时表面层金属的塑性变形以及工艺系统中的高频振动等。由于加工方法和工件材料的不同，被加工表面留下痕迹的深浅、疏密、形状和纹理都有差别。

2. 表面物理学的内容

理想的晶体表面具有二维周期性，其单位网格由基矢a1和a2决定,根据对称性的要求，可能形成的二维单位网格有五种，如图1所示，这五种格子常称为二维布喇菲格子。由于表面原子受力的情况与体内不同,或由于有外来原子的吸附，最表面层原子常会有垂直于或倾斜于表面的位移，表面下的数层原子也会有相应的垂直或横向位移，因而表面单位网格的基矢b1和b2与理想的表面不同，这种现象称为表面再构,如果表面原子只有垂直于表面的运动，则称为表面弛豫。表面结晶学的主要研究内容是弄清b1、b2与a1、a2之间的关系。如b1=pa1,b2=qa2,p和q都是整数，常用下述符号来描写晶体表面结构 R(hkl) p×q,式中R是元素的符号，(hkl)代表密勒指数是hkl的晶面。如果再构是由吸附物A引起的，则可用符号 R(hkl)p×q－A或 A/R(hkl)p×q。 如果表面和衬底单位网格的基矢并不平行，b1与a1、b2与a2之间有相同的夹角α,则常用下述符号来标志表面的再构 R(hkl)p×q－α。

要定量地研究表面，必须获得表面所有原子的坐标信息，为此早期采用的实验方法是低能电子衍射(LEED)。把能量在5～500eV范围的电子沿近于正入射的方向射向晶体表面，通过在荧光屏上观察到的衍射点可以获得有关表面的单位网格的信息。对若干衍射斑点记录斑点强度随电子能量变化的曲线（I-V线）,并对实验结果用根据一定的几何构形计算的理论曲线加以拟合，从而定出原子在单位网格中的位置，这就是LEED结晶学研究表面结构的方法。利用这种方法，研究了许多清洁金属表面的弛豫和再构、金属表面上的吸附、半导体表面的弛豫和再构等。图2给出目前研究得最清楚的而且认识比较一致的 GaAs(110)表面的结构。在表面上的砷原子向外弛豫，而镓原子则向内移动，表面的As-Ga键与无弛豫的表面的As-Ga键之间有一个夹角为ω1的倾斜。由于电子在晶体表面的多重散射增加了LEED结晶学在理论分析上的复杂性。此外，也可用中能电子衍射(MEED)和高能电子衍射 (RHEED)来研究表面结构。

表面扩展X 射线吸收精细结构(SEXAFS)是近年来发展起来的研究表面结构的另一手段。当吸附在衬底 S上的原子A吸收X 射线后，从芯态发射的光电子可受到周围原子的散射，出射电子波与散射电子波之间有干涉作用形成有起伏的末态。这个有起伏的末态使X 射线吸收的几率在吸收边后有振荡现象，振荡的幅度与周期包含了吸附原子 A的近领数及其和周围原子所形成的键长的信息。键长确定的准确度达±0.03┱。 利用能量为 60meV的氦原子在固体表面的弹性散射可以研究衬底和吸附层的周期性结构。足够强的原子束和表面的强相互作用，使这种探测方法具有相当高的灵敏度。探测深度只有3～4┱,衍射峰的强度主要取决于氦原子和表面原子的相互作用势，如何确定与实际情况最接近的势是当前的一个困难问题。
将能量在0.1～3MeV的 He或 H离子束准直沿着晶轴入射，由于离子束首先遭到晶轴第一个原子的散射,入射离子的轨迹形成一个影锥。由于入射波束的波长远小于点阵常数，可把散射过程看作似弹性碰撞，通过测量在影锥中的原子的散射可以测定第一层原子的位移。
表面成分
表面成分的确定是表面研究中的另一重要课题。利用原子芯态能级的位置和原子的质量这两个特征可以确认原子的类别。
X 射线光电子谱(XPS)是通过测量入射X射线打出表面外的光电子的动能Ek来确定芯态能级的位置Eb,从而定出原子的类型及其与周围原子成键的信息。芯态能量Eb和入射光子能量 啚ω，出射光电子动能Ek之间的关系为 ,
φs是功函数（图3）。在固体表面上，Eb的数值随着与周围原子成键的情况而有所移动，利用这种“化学位移”可以得到有关成键的信息。

俄歇电子谱 (AES)利用涉及三个能级的过程来确认原子，基本过程如图4所示。用能量在3～5keV的电子束e入射到晶体表面,把处于A能级某一芯态电子激发到体外,较高能级B的电子可通过无辐射复合过程填满空穴，并把多余的能量用来激发处于 C能级的另一个电子。通过测量这些逸出电子的数目随能量变化的信息可以识别元素。图4所示的过程称作俄歇过程,它涉及了A、B、C三个能级。当元素与其他元素形成化学键时，也会引起谱线的移动（俄歇电子谱）。
出现电势谱(APS) 测量足以产生芯态空穴的最低能量（见出现电势谱，图1）。由于芯态能量随元素而异，因此通过这个能量的测定可以鉴别元素。空穴的产生可以通过填充空穴时所涉及的俄歇过程或所发出的软 X射线来探测。前者称为俄歇出现电势谱(AEAPS)，后者为软X 射线出现电势谱(SXAPS)。如果测量入射电子束的反射，由于参与激发芯态电子的入射电子的能量损失而不在反射中出现，因此测量反射束强度的减弱也可探测空穴的存在，这个方法称为消隐出现电势谱(DAPS)（见出现电势谱）。
当低能（200～2000eV）惰性气体离子He、Ne、Ar等入射到表面时，通过弹性碰撞，由在一定角度内散射离子可测出表面原子的质量。由能量和动量守恒定律，能量为E0，散射到实验室参考系θ角中能量为E质量为M1的离子束，E和E0的关系可表示为
这个方法称为离子散射谱(ISS),上式对能量更高的离子也适用，只是实验上多采用θs≈π的背散射。对于低能离子散射，θs≈π/2。

如将能量为2～20keV的氩、氮、氧或铯离子入射到固体表面上，通过一系列的碰撞过程，次级离子及离子集团逸出体外，用质谱仪确认离子的品类，这种方法称为次级离子质谱(SIMS)。
对于有吸附物的表面，也可通过脱附过程来确认吸附物的类型以及吸附物与衬底的结合能。可通过加热、电子轰击和光照射来产生脱附，分别称为热脱附(TDS)、电子感生脱附(ESD)或光子感生脱附(PSD)。对于热脱附，脱附的激活能和产生脱附峰的绝对温度成正比。当用能量在10～1000eV的电子轰击表面时, 入射电子通过碰撞可将与衬底成键的原子中的电子由成键态激发到反键态，这个受激态和衬底的排斥势可使原子以离子态离开表面，常把这种机理称为门泽尔 (Menzel)－戈默(Gomer)－雷德黑德 (Redhead)模型。离子逃逸的方向形成分立的锥形。锥轴取决于被脱附断裂的分子键的取向。通过测量逃逸离子束的角分布，可以研究吸附类型，这个方法称为电子激发脱附离子角分布(ESDIAD)。对于过渡金属氧化物M.L.诺特克和P.J.菲布尔曼认为电子束轰击表面后，可在金属离子的芯态产生空穴，氧离子可通过离子间的俄歇过程，激发俄歇电子，成为中性氧原子或荷正电的氧离子离开表面（图6），因此 ESD可以用来做为研究表面吸附原子价态的有力工具。

在弄清表面结构和表面成分后，表面物理的主要研究内容之一是表面电子态和有关的物理性质。光电子能谱是研究表面电子态的重要方法之一。真空紫外辐射的光子可将固体体内价态中的电子或表面态的电子激发到较高能态，通过一系列的碰撞过程，逃逸出表面，测量这些电子的能量分布曲线(EDC)可得到有关占有状态密度的信息。由于表面态电子和体内电子服从不同的选择定则，可通过测量光子能量不同的能量分布曲线，其中不随光子能量变化而移动的峰即相应于表面态的峰。近年来，由于同步辐射的发展，可获得能量连续可变的光源。选择不同的光子能量可使光电子具有最小的逃逸深度，从而提高表面灵敏度，如果收集在某个角度内出射的光电子谱，则可得出表面电子态中占有态的能量色散关系。
测量总的光电子数随光子能量变化的谱称为产额谱，这个方法最早用来探测能隙中表面态的密度，当电子从占有态被激发到略高于真空能级的空态，这个电子可通过俄歇过程来激发电子，也可在经受多次碰撞后逃逸出体外。测量总的产额随光子能量的变化可灵敏地探测能隙中的状态。利用同步辐射，光子可将价带中的电子激发到导带或空的表面态，通过控制激发逃逸深度在 5～30┱的光电子，可探测表面态。当吸收光子后,激发的芯态电子可通过俄歇过程而退激发，也可通过和价带有关的激子的直接复合，或是与表面空态的直接复合，由此而产生的快电子可再次通过电子、电子之间的相互作用产生较慢的次级电子。在总的产额谱中，快的和慢的电子都被收集，如果只收集能量在5eV以下的次级电子，这种分析方法称为部分产额谱(PYS)。如测量能量高于5eV某一个范围内的产额谱，则称为恒定末态谱(CFS)，通过这种模式可以研究初态和激子的影响；如果同步地改变入射光子和电子分析器的能量,得到恒定初态谱(CIS)。如果适当选择E，使价带发射光电子的几率小，并增加芯态俄歇衰减的产额，就可以大大增强芯态到表面态的跃迁。利用光电子发射的衍射现象也可研究表面结构。
如将50～200eV 左右的低能电子束入射到固体表面，测量反射电子的能量损失如图7所示，通过这种能量损失谱可得到体等离激元、表面等离激元等信息。能量损失也可用于激发带间的跃迁或芯态能级间的跃迁。

利用电子的隧道过程也可探测表面电子态。当离子接近固体表面时，表面价态中电子可通过隧道效应和离子中和，放出的能量可用来把固体价态的电子激发到体外，利用这种过程来探测表面电子态的方法称为离子中和谱(INS)。由于只有在非常靠近表面的电子,才可能通过隧道效应与离子的空态复合，也只有在表面处激发的俄歇电子才能逸出体外，因此离子中和谱是对表面非常灵敏的探测手段。如果在中和过程中被激发的是在离子激发态的电子，这种过程称为亚稳退激谱(MDS)。
场发射显微镜(FEM)是根据冷阴极发射原理，把阴极腐蚀成半径为1～2000┱的尖端, 施加负电压后电子可通过隧道效应穿透到固体表面外并打在阴极前面的荧光屏上。由于电子穿透隧道的几率与外加电场和针尖的功函数有关，因此打在荧光屏上电子的多少就是针尖材料功函数大小的复制图。通过图形的变化可以了解气体原子在针尖表面的吸附、分解和扩散等过程。
为了提高分辨率，在场发射显微镜的基础上又发展了场离子显微镜(FIM)。把金属样品做成针尖状,然后加正电压，在针尖周围充以低压惰性气体，气体的电子可通过隧道效应进入样品费密能级以上的空态，带正电的离子被针尖场所斥，打在荧光屏上并显示出一定的图样，这个图样可提供有关表面分子电离、化学反应、分解以及蒸发的信息。在场离子显微镜的荧光屏上开一小孔，并将它与飞行时间质谱仪相结合，则构成原子探测束。
由于表面可被看为破坏了点阵周期性的缺陷，因此表面的原子具有和体内原子不同的振动模式。当表面有分子的覆盖层，通过研究这些覆盖层的振动模式可以测定吸附分子的结构，确定分子在表面的吸附位置。通过观察某些振动模式的激发，可以得到吸附分子相对于衬底的取向，研究频率随覆盖度的变化，可以了解覆盖层的横向相互作用。可以用红外反射谱(IRAS)、高分辨电子能量损失谱（HREELS）和非弹性电子隧道谱(IETS)来研究表面的振动。红外反射谱的优点是分辨率高，可在周围环境加压来模拟真正催化作用的情况，缺点是灵敏度低。高分辨电子能量损失谱具有高的灵敏度，但分辨率低。这个方法所根据的原理同前面所介绍的能量损失谱同,但是由于声子的能量只有数十毫电子伏，因此要求特殊设计的高分辨的探测器以及高度单色性的电子枪。非弹性隧道谱（IETS）是利用金属-绝缘体-金属（超导态）的夹心结构中的隧道过程(见约瑟夫森效应)来研究吸附在绝缘层的体系的振动谱，可由此决定吸附分子的分子结构，确定吸附分子的表面浓度、吸附物的取向、吸附物之间的相互作用等。

3. 表面粗糙度怎么检验，用什么方法去检测

1,印模法：此种方法多用于不能用仪器直接测量的或内表面，可用塑性材料作成块状的印模，贴合在被测表面上，待取下后贴合面上即复制出被测表面的轮廓状况，然后对此印模进行测量，确定其粗糙度等级。

2,综合测量法：它是利用被测表面的某种特征来间接评定表面粗糙度的级别，而不能测峰谷不平高度的具体数值。直接量法:利用光学、电动仪器对零件表面直接量取有关参数，确定粗糙度等级。

3比较测量法：将被测表面与标准粗糙度样板作比较，评定粗糙度等级。粗糙度样板（又称粗糙度标准块），是以不同的加工方法（车、刨、平铣、立铣、磨等）制成的一组金属块。

4,直接量法:利用光学、电动仪器对零件表面直接量取有关参数，确定粗糙度等级。

4. 表面粗糙度都有哪些测量方法

表面粗糙度测量方法：
1、比较法
比较法测量简便，使用于车间现场测量，常用于中等或较粗糙表面的测量。方法是将被测量表面与标有一定数值的粗糙度样板比较来确定被测表面粗糙度数值的方法。比较时可以采用的方法:Ra>1.6μm时用目测，Ra1.6~Ra0.4μm时用放大镜，Ra<0.4μm时用比较显微镜。
比较时要求样板的加工方法，加工纹理，加工方向，材料与被测零件表面相同。
2、触针法
利用针尖曲率半径为2微米左右的金刚石触针沿被测表面缓慢滑行，金刚石触针的上下位移量由电学式长度传感器转换为电信号，经放大、滤波、计算后由显示仪表指示出表面粗糙度数值，也可用记录器记录被测截面轮廓曲线。一般将仅能显示表面粗糙度数值的测量工具称为表面粗糙度测量仪，同时能记录表面轮廓曲线的称为表面粗糙度轮廓仪。这两种测量工具都有电子计算电路或电子计算机，它能自动计算出轮廓算术平均偏差Ra，微观不平度十点高度Rz，轮廓最大高度Ry和其他多种评定参数，测量效率高，适用于测量Ra为0.025～6.3微米的表面粗糙度。
3、光切法
双管显微镜测量表面粗糙度，可用作Ry与Rz参数评定，测量范围0.5~50。
4、干涉法
利用光波干涉原理(见平晶、激光测长技术)将被测表面的形状误差以干涉条纹图形显示出来，并利用放大倍数高（可达500倍）的显微镜将这些干涉条纹的微观部分放大后进行测量，以得出被测表面粗糙度。应用此法的表面粗糙度测量工具称为干涉显微镜。这种方法适用于测量Rz和Ry为0.025～0.8微米的表面粗糙度。
表面粗糙度(surfaceroughness)是指加工表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度。其两波峰或两波谷之间的距离（波距）很小（在1mm以下），它属于微观几何形状误差。表面粗糙度越小，则表面越光滑。表面粗糙度一般是由所采用的加工方法和其他因素所形成的，例如加工过程中刀具与零件表面间的摩擦、切屑分离时表面层金属的塑性变形以及工艺系统中的高频振动等。由于加工方法和工件材料的不同，被加工表面留下痕迹的深浅、疏密、形状和纹理都有差别。

5. 观察金属材料微观结构，形貌的常用方法有哪些

随着科学技术的不断发展，越来越多的领域，如材料科学、医学、地质学和生物工程学等，需要精确了解各种材料的微观形貌和微观结构。这些材料可以包括为特定目的设计制造的金属或陶瓷材料、天然提取物、化学反应生成物、或经过表面处理或者磨削得到的材料。这些材料机械性能和化学物理特性往往与其微观形貌和结构密切相关。应用电镜研究其表面结构、形状、三维尺寸和分散状态以及测量某些数据具有重要意义川。但是，对于这些材料的超细粒子，由于其具有较大的表面吉布斯自由能，粒子之间有较强自发集聚趋势，很容易形成团聚，严重影响微粒子的观察和测量。
因此，利用电镜研究微粒的很重要一步在于制备出没有颗粒堆积、又有一定密度，图象清晰的样品。本文就制备扫描电镜粉末样品的方法进行一些探讨。微粒制备成扫描电镜的样品，一般需要经过分散、铺放、镀导电膜3个步骤。微粒的分散一般认为，实现颗粒分散的基础是，增大颗粒表面电性，增强颗粒表面亲水性以及在颗粒表面形成空间位阻效应。分散介质在分散体系中，分散介质的性质十分重要。显然，分散介质必须不与微粒物质起化学反应；分散介质应是无色透明，并能较好地润湿被测的微粒；分散介质挥发的蒸气对仪器没有腐蚀作用，对人体也不应有危害。

6. 冷轧钢板表面结构标准FB,FC之类的具体是什么

SAE J911-1998 冷轧钢板表面粗糙度和峰值数测量方法
级 别 代 号
较高级的精整表面 FB(O3)
高级的精整表面 FC(O4)

FB,FC——表示冷轧钢板表面结构的精整表面的分级代号。

7. 实际表面的结构特点

固体表面几个原子层中原子的排列情况。包括表面单位网格的形状和大小，它相对于基底单位网格的取向，表面单位网格中原子的数目和相对位置（键长和键角等），最外层原子与第二、三……层原子的距离以及表面各层中原子的种类和排列状况等。晶体中原子排列的周期性在垂直于表面的方向上于表面处突然中断，使表面几层的原子所受内外两侧的力失去平衡，通过自给作用达到新的平衡后，表层原子的键长和键角均与体内不同，一般表现为表层原子沿垂直于表面的方向产生一定位移。位移可向外（膨胀），也可向内（收缩），此称为表面弛豫，表面区中不同原子层的弛豫程度不同。表层内原子新的平衡位置也可表现为沿表面产生了横向移动，而且其二维周期性也与体内不同，此称为表面重构（或表面再构）。表面区内还可能存在各种缺陷，例如空位、填隙原子、阶梯、畴界等各种偏离二维周期性的结构。来自环境的外来原子或分子由于物理作用和化学作用粘附于固体表面的过程称为吸附。吸附物可在固体表面形成无序的或有序的覆盖层。有序覆盖层一般形成重构结构，其二维周期不同于衬底的周期。

研究表面结构的最有效的实验手段是低能电子衍射，此外还有多种其他实验方法。

8. 粉体表面改性效果检测分析

矿物粉体经表面改性后，其改性效果的检测评价主要用以下几种方法。

一、应用结果评价法

应用结果评价法，是将经改性后的粉体应用于目标产品或体系中，直接检测最终产品性能的变化，它是对粉体表面改性效果最直接的评价。这种方法虽然人力财力耗费大，但由于可靠性高，因此在一些研究或生产应用中被广泛采用。

二、预先评价法

该法是对改性产品的一些物化性质和表面特征进行测试，比较粉体改性前后指标的变化，对改性产品的改性效果进行预先评价，其主要方法有:

1.润湿性评价法

无机填料用有机表面改性剂处理后，表面由极性变为非极性，表面能降低，对水呈现出较强的非浸润性特性，而对非极性的有机物则呈现出相容性。因此，接触角、渗透时间(透水速度)、吸油率、活化指数等指标是评价粉体与聚合物之间相容性好坏的主要指标之一，润湿性好的粉体，填加到聚合物中的流动性好，易于分散，混料容易且均匀，不易出现颗粒的团聚。

(1)测定界面接触角

改性粉体在极性液体中的接触角越大，在非极性液体中的接触角越小，即粉体表面疏水性越强，改性效果越好。通常用接触角测定仪测定其接触角，方法是压片直接测量法，即将矿物粉体压实成块或片，在接触角测定仪上直接测量。测定润湿接触角的方法还有很多，但可靠的却很少。

(2)测定透水速度

由于接触角难以准确测定，因此，在研究中也常采用一些简便的方法来测定试样的疏水性或润湿性，如测定其透水速度。具体做法是将未改性和改性后的试样在精密压力机上压制成块，然后在每块试样上滴加相同量的蒸馏水，测定其浸透时间。一般来说，经有机物表面改性后试样的透水速度大大低于末改性试样。因此，透水速度可作为试样改性效果的相对指标。

(3)测定分散性

通过试样在极性溶剂(如水)和非极性溶剂(如苯)中的分散性来相对比较表面改性的结果，因为无机粉体物料经有机表面改性剂包覆后在水中的分散性变差，而在苯中的分散性变好。

(4)测定吸油率

其方法是，在玻璃捧搅拌下，将蓖麻油通过滴定管加入到已知量的粉体中，当粉体刚好黏结成球团时，记录此时的用油量。吸油率=蓖麻油用量/粉料用量。

(5)活化指数

对于用有机表面改性剂如非离子型表面活性剂处理后的无机填料或颜料，还可采用“活化指数”来表征表面处理的效果。无机填料或颜料物体一般相对密度较大，而且表面呈极性状态，在水中易自然沉降。而有机表面改性剂是非水溶性的表面活性剂，经表面改性处理后的无机粉体，表面由极性变为非极性，对水呈现出较强的非浸润性。这种非浸润性的细小颗粒，在水中由于巨大的表面张力，使其如同油膜一样漂浮不沉。根据这一现象，提出“活化指数”的概念，用H表示，H=漂浮部分质量/样品总质量。可见，未经表面活化(即改性)处理的无机粉体，H=0，活化处理最彻底时，H=1.0。H由0～1.0的变化过程，可反映出表面活化程度由小至大，也即表面处理效果好坏的情况。在无机填料的有机表面改性工艺中，表面改性剂的种类和用量对填充体系的性能有显着影响，改性剂的用量可参考“活化指数”来确定。所谓最佳用量，即是表面改性剂在填料颗粒表面上覆盖单分子层的用量，大于此量，则将形成多层物理吸附的界面薄弱层，从而引起被填充物的强度下降;低于最佳用量，则填料颗粒表面改性处理不完全。因此，活化指数可作为表面改性活性无机填料等粉体的一项质量指标，为用有机表面改性剂处理无机填料或颜料提供了一种快捷、实用、可靠的产品质量检验方法。

2.表面自由能评价法

绝大多数矿物粉体都具有较大的表面自由能，粉体表面经改性附着后，表面能都要降低，可由此来评价改性效果。

3.测定表面结构和成分的方法

表面分析常用的实验方法主要是一些能谱方法和量子力学效应的显微技术。这些能谱按其物理过程可分为电子能谱、离子能谱、光谱、声子谱、热分析等。主要研究表面结构、原子位型、化学键特性等，主要方法有:

(1)红外光谱

红外光谱法在粉体表面改性效果研究中是一种极其重要的手段。只要表面存在某种官能团或化学键，在其红外光谱图中就有相应的特征吸收峰。如矿物粉体用偶联剂在不同条件下处理后，偶联剂分子可以吸附或覆盖在矿物表面，对矿物结构中各种基团的振动能级基本上不产生影响，如果偶联剂分子与矿物表面发生化学键合，则会产生新的能级，并导致其红外光谱变化或形成新的吸收峰。只有当偶联剂分子与矿物表面形成化学键，才能产生较好的改性效果。因此，对改性前后的粉体样品进行红外光谱分析，根据对应特征峰的变化，就可以揭示改性剂与矿物表面键合的类型和性质。

(2)X射线衍射分析

X射线衍射分析是研究固体物质结构变化的最为重要的方法。经改性处理尤其是利用机械力化学改性法处理的矿物粉体，不仅表面性质发生变化，其内部结构或晶型也会随之变化，用X射线衍射分析研究改性效果，可得到详细的信息。

(3)其他方法

热分析、表面分析新技术(如电子能谱等)在揭示改性剂与粉体表面作用机理方面，都是一种有效的手段。

9. 瓷砖的结构表面结构的成份是什么它的好坏主要看那方面的谢谢！

原材料多由粘土、石英沙等等混合而成。

瓷砖的挑选方法
家庭装修时都要选购瓷砖，怎样买到物有所值、称心如意的瓷砖也有一定的学问，总的来说选购瓷砖的原则是：一看、二听、三滴水、四尺量。
一、看外观。瓷砖的色泽要均匀，表面光洁度及平整度要好，周边规则，图案完整，从一箱中抽出四五片察看有无色差、变形、缺棱少角等缺陷。
二、听声音。用硬物轻击，声音越清脆，则瓷化程度越高，质量越好。也可以左手拇指、食指和中指夹瓷砖一角，轻松垂下，用右手食指轻击瓷砖中下部，如声音清亮、悦耳为上品，如声音沉闷、滞浊为下品。
三、滴水试验。可将水滴在瓷砖背面，看水散开后浸润的快慢，一般来说，吸水越慢，说明该瓷砖密度越大；反之，吸水越快，说明密度稀疏，其内在品质以前者为优。
四、尺量。瓷砖边长的精确度越高，铺贴后的效果越好，买优质瓷砖不但容易施工，而且能节约工时和辅料。用卷尺测量每片瓷砖的大小周边有无差异，精确度高的为上品。
另外，观察其硬度，瓷砖以硬度良好、韧性强、不易碎烂为上品。以瓷砖的残片棱角互相划痕，察看破损的碎片断裂处是细密还是疏松，是硬、脆还是较软，是留下划痕，还是散落的粉末，如属前者即为上品，后者即质差。
尺寸是否标准是判断磁砖优劣的关键，用卷尺或卡尺测量磁砖的对角线和四边尺寸及厚度是否均匀，好的瓷砖，声音脆响，说明瓷质含量高。如果声音“嗒嗒”带破茬声，说明砖内藏有裂纹。
好的磁砖，师傅安装也方便施工，安装出来的效果也规范。