① 表面物理學的內容
理想的晶體表面具有二維周期性,其單位網格由基矢a1和a2決定,根據對稱性的要求,可能形成的二維單位網格有五種,如圖1所示,這五種格子常稱為二維布喇菲格子。由於表面原子受力的情況與體內不同,或由於有外來原子的吸附,最表面層原子常會有垂直於或傾斜於表面的位移,表面下的數層原子也會有相應的垂直或橫向位移,因而表面單位網格的基矢b1和b2與理想的表面不同,這種現象稱為表面再構,如果表面原子只有垂直於表面的運動,則稱為表面弛豫。表面結晶學的主要研究內容是弄清b1、b2與a1、a2之間的關系。如b1=pa1,b2=qa2,p和q都是整數,常用下述符號來描寫晶體表面結構 R(hkl) p×q,式中R是元素的符號,(hkl)代表密勒指數是hkl的晶面。如果再構是由吸附物A引起的,則可用符號 R(hkl)p×q-A或 A/R(hkl)p×q。 如果表面和襯底單位網格的基矢並不平行,b1與a1、b2與a2之間有相同的夾角α,則常用下述符號來標志表面的再構 R(hkl)p×q-α。
要定量地研究表面,必須獲得表面所有原子的坐標信息,為此早期採用的實驗方法是低能電子衍射(LEED)。把能量在5~500eV范圍的電子沿近於正入射的方向射向晶體表面,通過在熒光屏上觀察到的衍射點可以獲得有關表面的單位網格的信息。對若干衍射斑點記錄斑點強度隨電子能量變化的曲線(I-V線),並對實驗結果用根據一定的幾何構形計算的理論曲線加以擬合,從而定出原子在單位網格中的位置,這就是LEED結晶學研究表面結構的方法。利用這種方法,研究了許多清潔金屬表面的弛豫和再構、金屬表面上的吸附、半導體表面的弛豫和再構等。圖2給出目前研究得最清楚的而且認識比較一致的 GaAs(110)表面的結構。在表面上的砷原子向外弛豫,而鎵原子則向內移動,表面的As-Ga鍵與無弛豫的表面的As-Ga鍵之間有一個夾角為ω1的傾斜。由於電子在晶體表面的多重散射增加了LEED結晶學在理論分析上的復雜性。此外,也可用中能電子衍射(MEED)和高能電子衍射 (RHEED)來研究表面結構。
表面擴展X 射線吸收精細結構(SEXAFS)是近年來發展起來的研究表面結構的另一手段。當吸附在襯底 S上的原子A吸收X 射線後,從芯態發射的光電子可受到周圍原子的散射,出射電子波與散射電子波之間有干涉作用形成有起伏的末態。這個有起伏的末態使X 射線吸收的幾率在吸收邊後有振盪現象,振盪的幅度與周期包含了吸附原子 A的近領數及其和周圍原子所形成的鍵長的信息。鍵長確定的准確度達±0.03┱。 利用能量為 60meV的氦原子在固體表面的彈性散射可以研究襯底和吸附層的周期性結構。足夠強的原子束和表面的強相互作用,使這種探測方法具有相當高的靈敏度。探測深度只有3~4┱,衍射峰的強度主要取決於氦原子和表面原子的相互作用勢,如何確定與實際情況最接近的勢是當前的一個困難問題。
將能量在0.1~3MeV的 He或 H離子束準直沿著晶軸入射,由於離子束首先遭到晶軸第一個原子的散射,入射離子的軌跡形成一個影錐。由於入射波束的波長遠小於點陣常數,可把散射過程看作似彈性碰撞,通過測量在影錐中的原子的散射可以測定第一層原子的位移。
表面成分
表面成分的確定是表面研究中的另一重要課題。利用原子芯態能級的位置和原子的質量這兩個特徵可以確認原子的類別。
X 射線光電子譜(XPS)是通過測量入射X射線打出表面外的光電子的動能Ek來確定芯態能級的位置Eb,從而定出原子的類型及其與周圍原子成鍵的信息。芯態能量Eb和入射光子能量 啚ω,出射光電子動能Ek之間的關系為 ,
φs是功函數(圖3)。在固體表面上,Eb的數值隨著與周圍原子成鍵的情況而有所移動,利用這種「化學位移」可以得到有關成鍵的信息。
俄歇電子譜 (AES)利用涉及三個能級的過程來確認原子,基本過程如圖4所示。用能量在3~5keV的電子束e入射到晶體表面,把處於A能級某一芯態電子激發到體外,較高能級B的電子可通過無輻射復合過程填滿空穴,並把多餘的能量用來激發處於 C能級的另一個電子。通過測量這些逸出電子的數目隨能量變化的信息可以識別元素。圖4所示的過程稱作俄歇過程,它涉及了A、B、C三個能級。當元素與其他元素形成化學鍵時,也會引起譜線的移動(俄歇電子譜)。
出現電勢譜(APS) 測量足以產生芯態空穴的最低能量(見出現電勢譜,圖1)。由於芯態能量隨元素而異,因此通過這個能量的測定可以鑒別元素。空穴的產生可以通過填充空穴時所涉及的俄歇過程或所發出的軟 X射線來探測。前者稱為俄歇出現電勢譜(AEAPS),後者為軟X 射線出現電勢譜(SXAPS)。如果測量入射電子束的反射,由於參與激發芯態電子的入射電子的能量損失而不在反射中出現,因此測量反射束強度的減弱也可探測空穴的存在,這個方法稱為消隱出現電勢譜(DAPS)(見出現電勢譜)。
當低能(200~2000eV)惰性氣體離子He、Ne、Ar等入射到表面時,通過彈性碰撞,由在一定角度內散射離子可測出表面原子的質量。由能量和動量守恆定律,能量為E0,散射到實驗室參考系θ角中能量為E質量為M1的離子束,E和E0的關系可表示為
這個方法稱為離子散射譜(ISS),上式對能量更高的離子也適用,只是實驗上多採用θs≈π的背散射。對於低能離子散射,θs≈π/2。
如將能量為2~20keV的氬、氮、氧或銫離子入射到固體表面上,通過一系列的碰撞過程,次級離子及離子集團逸出體外,用質譜儀確認離子的品類,這種方法稱為次級離子質譜(SIMS)。
對於有吸附物的表面,也可通過脫附過程來確認吸附物的類型以及吸附物與襯底的結合能。可通過加熱、電子轟擊和光照射來產生脫附,分別稱為熱脫附(TDS)、電子感生脫附(ESD)或光子感生脫附(PSD)。對於熱脫附,脫附的激活能和產生脫附峰的絕對溫度成正比。當用能量在10~1000eV的電子轟擊表面時, 入射電子通過碰撞可將與襯底成鍵的原子中的電子由成鍵態激發到反鍵態,這個受激態和襯底的排斥勢可使原子以離子態離開表面,常把這種機理稱為門澤爾 (Menzel)-戈默(Gomer)-雷德黑德 (Redhead)模型。離子逃逸的方向形成分立的錐形。錐軸取決於被脫附斷裂的分子鍵的取向。通過測量逃逸離子束的角分布,可以研究吸附類型,這個方法稱為電子激發脫附離子角分布(ESDIAD)。對於過渡金屬氧化物M.L.諾特克和P.J.菲布爾曼認為電子束轟擊表面後,可在金屬離子的芯態產生空穴,氧離子可通過離子間的俄歇過程,激發俄歇電子,成為中性氧原子或荷正電的氧離子離開表面(圖6),因此 ESD可以用來做為研究表面吸附原子價態的有力工具。
在弄清表面結構和表面成分後,表面物理的主要研究內容之一是表面電子態和有關的物理性質。光電子能譜是研究表面電子態的重要方法之一。真空紫外輻射的光子可將固體體內價態中的電子或表面態的電子激發到較高能態,通過一系列的碰撞過程,逃逸出表面,測量這些電子的能量分布曲線(EDC)可得到有關佔有狀態密度的信息。由於表面態電子和體內電子服從不同的選擇定則,可通過測量光子能量不同的能量分布曲線,其中不隨光子能量變化而移動的峰即相應於表面態的峰。近年來,由於同步輻射的發展,可獲得能量連續可變的光源。選擇不同的光子能量可使光電子具有最小的逃逸深度,從而提高表面靈敏度,如果收集在某個角度內出射的光電子譜,則可得出表面電子態中佔有態的能量色散關系。
測量總的光電子數隨光子能量變化的譜稱為產額譜,這個方法最早用來探測能隙中表面態的密度,當電子從佔有態被激發到略高於真空能級的空態,這個電子可通過俄歇過程來激發電子,也可在經受多次碰撞後逃逸出體外。測量總的產額隨光子能量的變化可靈敏地探測能隙中的狀態。利用同步輻射,光子可將價帶中的電子激發到導帶或空的表面態,通過控制激發逃逸深度在 5~30┱的光電子,可探測表面態。當吸收光子後,激發的芯態電子可通過俄歇過程而退激發,也可通過和價帶有關的激子的直接復合,或是與表面空態的直接復合,由此而產生的快電子可再次通過電子、電子之間的相互作用產生較慢的次級電子。在總的產額譜中,快的和慢的電子都被收集,如果只收集能量在5eV以下的次級電子,這種分析方法稱為部分產額譜(PYS)。如測量能量高於5eV某一個范圍內的產額譜,則稱為恆定末態譜(CFS),通過這種模式可以研究初態和激子的影響;如果同步地改變入射光子和電子分析器的能量,得到恆定初態譜(CIS)。如果適當選擇E,使價帶發射光電子的幾率小,並增加芯態俄歇衰減的產額,就可以大大增強芯態到表面態的躍遷。利用光電子發射的衍射現象也可研究表面結構。
如將50~200eV 左右的低能電子束入射到固體表面,測量反射電子的能量損失如圖7所示,通過這種能量損失譜可得到體等離激元、表面等離激元等信息。能量損失也可用於激發帶間的躍遷或芯態能級間的躍遷。
利用電子的隧道過程也可探測表面電子態。當離子接近固體表面時,表面價態中電子可通過隧道效應和離子中和,放出的能量可用來把固體價態的電子激發到體外,利用這種過程來探測表面電子態的方法稱為離子中和譜(INS)。由於只有在非常靠近表面的電子,才可能通過隧道效應與離子的空態復合,也只有在表面處激發的俄歇電子才能逸出體外,因此離子中和譜是對表面非常靈敏的探測手段。如果在中和過程中被激發的是在離子激發態的電子,這種過程稱為亞穩退激譜(MDS)。
場發射顯微鏡(FEM)是根據冷陰極發射原理,把陰極腐蝕成半徑為1~2000┱的尖端, 施加負電壓後電子可通過隧道效應穿透到固體表面外並打在陰極前面的熒光屏上。由於電子穿透隧道的幾率與外加電場和針尖的功函數有關,因此打在熒光屏上電子的多少就是針尖材料功函數大小的復制圖。通過圖形的變化可以了解氣體原子在針尖表面的吸附、分解和擴散等過程。
為了提高解析度,在場發射顯微鏡的基礎上又發展了場離子顯微鏡(FIM)。把金屬樣品做成針尖狀,然後加正電壓,在針尖周圍充以低壓惰性氣體,氣體的電子可通過隧道效應進入樣品費密能級以上的空態,帶正電的離子被針尖場所斥,打在熒光屏上並顯示出一定的圖樣,這個圖樣可提供有關表面分子電離、化學反應、分解以及蒸發的信息。在場離子顯微鏡的熒光屏上開一小孔,並將它與飛行時間質譜儀相結合,則構成原子探測束。
由於表面可被看為破壞了點陣周期性的缺陷,因此表面的原子具有和體內原子不同的振動模式。當表面有分子的覆蓋層,通過研究這些覆蓋層的振動模式可以測定吸附分子的結構,確定分子在表面的吸附位置。通過觀察某些振動模式的激發,可以得到吸附分子相對於襯底的取向,研究頻率隨覆蓋度的變化,可以了解覆蓋層的橫向相互作用。可以用紅外反射譜(IRAS)、高分辨電子能量損失譜(HREELS)和非彈性電子隧道譜(IETS)來研究表面的振動。紅外反射譜的優點是解析度高,可在周圍環境加壓來模擬真正催化作用的情況,缺點是靈敏度低。高分辨電子能量損失譜具有高的靈敏度,但解析度低。這個方法所根據的原理同前面所介紹的能量損失譜同,但是由於聲子的能量只有數十毫電子伏,因此要求特殊設計的高分辨的探測器以及高度單色性的電子槍。非彈性隧道譜(IETS)是利用金屬-絕緣體-金屬(超導態)的夾心結構中的隧道過程(見約瑟夫森效應)來研究吸附在絕緣層的體系的振動譜,可由此決定吸附分子的分子結構,確定吸附分子的表面濃度、吸附物的取向、吸附物之間的相互作用等。
② 表面分析的分析方法
表面分析方法有數十種,常用的有離子探針、俄歇電子能譜分析和X射線光電子能譜分析,其次還有離子中和譜、離子散射譜、低能電子衍射、電子能量損失譜、紫外線電子能譜等技術,以及場離子顯微鏡分析等。
離子探針分析
離子探針分析,又稱離子探針顯微分析。它是利用電子光學方法將某些惰性氣體或氧的離子加速並聚焦成細小的高能離子束來轟擊試樣表面,使之激發和濺射出二次離子,用質譜儀對具有不同質荷比(質量/電荷)的離子進行分離,以檢測在幾個原子深度、數微米范圍內的微區的全部元素,並可確定同位素。它的檢測靈敏度高於電子探針(見電子探針分析),對超輕元素特別靈敏,可檢測10(克的痕量元素,其相對靈敏度達 10(~10(。分析速度快,可方便地獲得元素的平面分布圖像。還可利用離子濺射效應分析表面下數微米深度內的元素分布。但離子探針定量分析方法尚不成熟。
1938年就有人進行過離子與固體相互作用方面的研究,但直到60年代才開始生產實用的離子探針分析儀。離子探針分析儀的基本部件包括真空系統、離子源、一次離子聚焦光學系統、質譜儀、探測和圖像顯示系統、樣品室等。離子探針適用於超輕元素、微量和痕量元素的分析以及同位素的鑒定。廣泛應用於金屬材料的氧化、腐蝕、擴散、析出等問題的研究,特別是材料氫脆現象的研究,以及表面鍍層和滲層等的分析。
俄歇電子能譜分析
俄歇電子能譜分析, 用電子束 (或X射線)轟擊試樣表面,使其表面原子內層能級上的電子被擊出而形成空穴,較高能級上的電子填補空穴並釋放出能量,這一能量再傳遞給另一電子,使之逸出,最後這個電子稱為俄歇電子。1925年法國的P.V.俄歇首先發現並解釋了這種二次電子,後來被人們稱為俄歇電子,但直到1967年俄歇電子能譜技術才用於研究金屬問題。通過能量分析器和檢測系統來檢測俄歇電子能量和強度,可獲得有關表面層化學成分的定性和定量信息,以及化學狀態、電子態等情況。在適當的實驗條件下,該方法對試樣無破壞作用,可分析試樣表面內幾個原子層深度、數微米區域內除氫和氦以外的所有元素,對輕元素和超輕元素很靈敏。檢測的相對靈敏度因元素而異,一般為萬分之一到千分之一。絕對靈敏度達10(單層(1個單層相當於每平方厘米約有10(個原子)。可方便而快速地進行點、線、面元素分析以及部分元素的化學狀態分析。結合離子濺射技術,可得到元素沿深度方向的分布。
俄歇電子能譜儀器的結構主要包括真空系統、激發源和電子光學系統、能量分析器和檢測記錄系統、試驗室和樣品台、離子槍等。
俄歇電子能譜分析在機械工業中主要用於金屬材料的氧化、腐蝕、摩擦、磨損和潤滑特性等的研究和合金元素及雜質元素的擴散或偏析、表面處理工藝及復合材料的粘結性等問題的研究。
X射線光電子能譜分析
X射線光電子能譜分析,以一定能量的X射線輻照氣體分子或固體表面,發射出的光電子的動能與該電子原來所在的能級有關,記錄並分析這些光電子能量可得到元素種類、化學狀態和電荷分布等方面的信息。這種非破壞性分析方法,不僅可以分析導體、半導體,還可分析絕緣體。除氫以外所有元素都能檢測。雖然檢測靈敏度不高,僅達千分之一左右,但絕對靈敏度可達2×10(單層。
這種分析技術是由瑞典的K.瑟巴教授及其合作者建立起來的。1954年便開始了研究,起初稱為化學分析用電子能譜(簡稱ESCA),後普遍稱為X射線光電子能譜(簡稱XPS)。主要包括:真空系統、X射線源、能量分析器和檢測記錄系統、試驗室和樣品台等。這種分析方法已廣泛用於鑒定材料表面吸附元素種類,腐蝕初期和腐蝕進行狀態時的腐蝕產物、表面沉積等;研究摩擦副之間的物質轉移、粘著、磨損和潤滑特性;探討復合材料表面和界面特徵;鑒定工程塑料製品等。
③ 實際表面的結構特點
固體表面幾個原子層中原子的排列情況。包括表面單位網格的形狀和大小,它相對於基底單位網格的取向,表面單位網格中原子的數目和相對位置(鍵長和鍵角等),最外層原子與第二、三……層原子的距離以及表面各層中原子的種類和排列狀況等。晶體中原子排列的周期性在垂直於表面的方向上於表面處突然中斷,使表面幾層的原子所受內外兩側的力失去平衡,通過自給作用達到新的平衡後,表層原子的鍵長和鍵角均與體內不同,一般表現為表層原子沿垂直於表面的方向產生一定位移。位移可向外(膨脹),也可向內(收縮),此稱為表面弛豫,表面區中不同原子層的弛豫程度不同。表層內原子新的平衡位置也可表現為沿表面產生了橫向移動,而且其二維周期性也與體內不同,此稱為表面重構(或表面再構)。表面區內還可能存在各種缺陷,例如空位、填隙原子、階梯、疇界等各種偏離二維周期性的結構。來自環境的外來原子或分子由於物理作用和化學作用粘附於固體表面的過程稱為吸附。吸附物可在固體表面形成無序的或有序的覆蓋層。有序覆蓋層一般形成重構結構,其二維周期不同於襯底的周期。
研究表面結構的最有效的實驗手段是低能電子衍射,此外還有多種其他實驗方法。
④ 光催化材料常用的表徵方法有哪些
1、粉末X射線衍射法,除了用於對固體樣品進行物相分析外,還可用來測定晶體 結構的晶胞參數、點陣型式及簡單結構的原子坐標。X射線衍射分析用於物相分析 的原理是:由各衍射峰的角度位置所確定的晶面間距d以及它們的相對強度Ilh是物 質的固有特徵。
而每種物質都有特定的晶胞尺寸和晶體結構,這些又都與衍射強 度和衍射角有著對應關系,因此,可以根據衍射數據來鑒別晶體結構。此外,依 據XRD衍射圖,利用Schercr公式:,K,, (2), Lcos,式中p為衍射峰的半高寬所對應的弧度值;K為形態常數,可取0.94或0.89。
為X 射線波長,當使用銅靶時,又1.54187 A; L為粒度大小或一致衍射晶疇大小;e為 布拉格衍射角。用衍射峰的半高寬FWHM和位置(2a)可以計算納米粒子的粒徑。
2、熱分析表徵。熱分析技術應用於固體催化劑方面的研究,主要是利用熱分析跟蹤氧化物制 備過程中的重量變化、熱變化和狀態變化。本論文採用的熱分析技術是在氧化物 分析中常用的示差掃描熱法(Differential Scanning Calorimetry, DSC)和熱重法( Thermogravimetry, TG ),簡稱為DSC-TG法。採用STA-449C型綜合熱分析儀(德,10國耐馳)進行熱分析,N2保護器。升溫速率為10 C.min 。
3、掃描隧道顯微鏡法。掃描隧道顯微鏡有原子量級的高解析度,其平行和垂直於表面方向的解析度 分別為0.1 nm和0.01nm,即能夠分辨出單個原子,因此可直接觀察晶體表面的近原子像;其次是能得到表面的三維圖像,可用於測量具有周期性或不具備周期性的 表面結構。通過探針可以操縱和移動單個分子或原子,按照人們的意願排布分子 和原子,以及實現對表面進行納米尺度的微加工。
4、透射電子顯微鏡法。透射電鏡可用於觀測微粒的尺寸、形態、粒徑大小、分布狀況、粒徑分布范 圍等,並用統計平均方法計算粒徑,一般的電鏡觀察的是產物粒子的顆粒度而不 是晶粒度。高分辨電子顯微鏡(HRTEM)可直接觀察微晶結構,尤其是為界面原 子結構分析提供了有效手段。
它可以觀察到微小顆粒的固體外觀,根據晶體形貌 和相應的衍射花樣、高分辨像可以研究晶體的生長方向。測試樣品的制備同SEM 樣品。本研究採用 JEM-3010E高分辨透射電子顯微鏡(日本理學)分析晶體結構, 加速電壓為200 kV 。
5、X射線能量彌散譜儀法。每一種元素都有它自己的特徵X射線,根據特徵X射線的波長和強度就能得出定性和定量的分析結果,這是用X射線做成分分析的理論依據。EDS分析的元 素范圍Be4-U9a,一般的測量限度是0.01%,最小的分析區域在5~50A,分析時間幾分鍾即可。X射線能譜儀是一種微區微量分析儀。
⑤ 材料有哪些表面處理工藝
1.金屬
鋁:可以採用噴砂(這是廣東一帶粗俗說法,實際是拋丸)通過拋丸機加壓噴射金剛砂,打到金屬表面,根據金剛砂的大小(單位用目數表示)形成金屬表面的亞光磨砂效果。
通常在燈具,傢具中使用。此加工僅能形成材料表面的質感,還需要再做一次陽極氧化,做出特殊顏色,比較絢麗。
缺點:
拋丸工藝對壓力控制比較難,自動化設備需要反復實驗操機調機,達到理想數值,都咋變形量非常大,對開口型鋁型材,薄壁型零件,不建議採用此種方法,或者在做毛坯件時加大形變餘量。
還有一種方法可以避免變型方法,可以採用噴鹼沙的方式。歐洲很多鋁質感的家用壁掛水暖氣常用。效果和噴砂很像,沒有噴砂那種手感,看起來相近,顏色更暗。更細膩。不太像被陽極氧化後的光亮閃耀色彩鮮明。
另一種工藝是噴油,也可以作出仿氧化噴砂的效果,有點是顏色和陽極氧化一樣以假亂真,但表面有亮油的感覺,像是陽極氧化後被噴了一層亮油的感覺。這種方法是可以同時對塑料加工,但要求塑膠料耐一定溫度,否則過高溫爐時塑膠會變形,軟化。
這種方法做的噴油不會因為產品過熱而變色或爆漆,也比較耐刮花。
鋁材質的零件還會採用噴粉,但噴粉工藝通常加工費比較高,所以很多產品採用鐵噴粉,鋁就通常用陽極氧化上色保護鋁材不被氧化變黑
鋁和鋼板通常市場上有用葯水處理好的腐蝕紋路,也有整張板材做的拉絲板和雪花砂紋等紋路板
這種工藝通常會顯得很高檔,這種常見於地鐵站火車站的欄桿扶手,電梯牆壁等
也可以在產品加工好後對產品加工,但是由於全手工操作,不建議對過長的產品進行拉絲,很容易做的很粗糙。通常就是用百潔布,鋼絲球加滑石粉加工。
即便有拉絲機,也還是人為影響因素比較大。
這樣的工藝可以用於多數燈具,鋼管傢具零件上,還有那種在旋轉盤上對圓形底盤,桌面加工的.
疊加此工藝,可以在某些不銹鋼桌面上找到那種魚鱗紋路。早期是純人工用腳踩一個一個踩,現在已經有人工輔助機器製作。
為了避免不均勻,如果是塑膠料可以考慮曬紋處理成拉絲效果的紋路,然後在塑膠母粒里摻金屬粉末,注塑後會有拉絲效果
還可以考慮在透明亞克力板的內壁做絲印,噴漆也可以做出仿金屬拉絲效果。
市面上還有用PET材質做的絲印拉絲紋,電鍍後也可以做出仿金屬拉絲效果,常見於手機加工。
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2014.05.11
【噴粉】
噴粉可以實現【雪花紋】形似電視失去信號後出現的樣子,顏色可選,摸上去凹凸有致,像月球表面。但很光滑。也可以實現【仿石】噴上去以後可以自動形成石頭一樣的效果,摸上去和真的石頭一樣。
【仿木紋】
這個不是特別了解,如有不對盼指正。僅在噴粉廠偷見過一次製作過程。是將印有木紋的紙帶貼在金屬表面,然後高溫烘烤。沒猜錯這就是傳說中的熱移印。
【仿古做舊】
這種工藝不良率很高,全憑師傅手感。通常在金屬表面上一層底漆為古銅色,再噴一層深色漆。用鋼刷輕掃稜角邊框,使其露出底色。
另一種方法是先上底漆為深色漆,在用刷子沾古銅漆輕掃稜角邊框。該方案製作相對簡單,但是沒有上一方案逼真。
【噴油】
噴油廠通常可以做【手感漆】通常在塑膠表面進行,手感漆本身沒有顏色呈半透明狀,摸上去很有肉感,噴的薄的摸上去有點毛絨的感覺。由於他本身沒有顏色,所以塑膠件表面可以先刷一層底漆或者先注塑出不同顏色。再噴手感漆。
【仿金屬氧化噴砂】
此工藝用噴油即可,製作相對簡單,可以用於多種材料上,金屬塑膠不限。比噴砂氧化要便宜,成品率高。原材料不變形。
2.塑膠
塑膠之前有講過,絲印,熱轉印,噴油,手感漆都可以做。有時會做燙金,這種做出來很高檔。網路一下能看到效果。
下面我只想講下特殊的工藝【IMD,面塗裝模內注塑】
方法是先將要做的表面處理圖案印到膠片上,然後隨模具一同注塑到零件里,通常用PC,ABS料上,好處是可以做各種花紋,仿金屬拉絲,仿氧化噴砂,仿古做舊,什麼圖案紋理都可以印。好處是免二次加工,也不會擔心摩花刮花掉色。
看一下格力最新的櫃式空調i尊系列都是用的此工藝。
十五年前飛利浦就開始應用此工藝,最近又流行起來了。