A. 元素分析哪能做
元素分析：
如果要分析材料微區成分元素種類與含量，往往有多種方法，能譜就是我們最常用的手段。
能譜具有操作簡單、分析速度快以及結果直觀等特點，最重要的是其價格相比於高大上的電鏡來說更為低廉，因此能譜也成為了目前電鏡的標配。
能譜EDS的采樣深度大約為1 μm，可對試樣微區內Be~U范圍內的元素進行分析。根據掃描方式的不同可分為點掃、線掃和面掃。點掃和線掃都是對樣品的某一位置進行微區元素分析，兩者區別是掃描能譜的面積大小不一。點掃可以給出掃描元素的相對含量，測試准確性較高，常用於顯微結構的成分分析。面掃是對樣品某一區域的元素分布進行觀察。
EDS點掃
EDS 點分析是將電子束固定於樣品中某一點上，進行定性或者定量的分析。如圖1所示是能譜點掃給出的峰型圖，每一種元素在圖中會出現一種峰，由此可以看出樣品中所含有的元素，同時，也會相對應的給出如表1所示的元素相對含量表，表中數據展示了相對質量分數和相對原子分數及誤差，誤差越大表示元素的相對含量可信度越低。
EDS 線掃
EDS 線掃描分析是電子束沿一條線對樣品進行掃描，能得到元素含量變化的線分布曲線。結合樣品形貌像對照分析，能直觀獲得元素在不同區域的分布情況。
EDS 面掃
EDS 面掃描分析是電子束在樣品表面掃描，試樣表面的元素在屏幕上由亮度或彩色表現出來，常用來做定性分析。亮度越高，元素含量越高，結合形貌像常用於成分偏聚、相分布的研究中。
B. X射線光電子能譜適用於哪些的分析對樣品有什麼特殊要求么
1x射線光電子能譜技術是一種表面分析方法， 使用X射線去輻射樣品，使原子或分子的內層電子或價電子受激發射出來，被光子激發出來的電子稱為光電子，可以測量光電子的能量和數量，從而獲得待測物組成。XPS主要應用是測定電子的結合能來鑒定樣品表面的化學性質及組成的分析，其特點在光電子來自表面10nm以內，僅帶出表面的化學信息，具有分析區域小、分析深度淺和不破壞樣品的特點，廣泛應用於金屬、無機材料、催化劑、聚合物、塗層材料礦石等各種材料的研究，以及腐蝕、摩擦、潤滑、粘接、催化、包覆、氧化等過程的研究。
2.可以為客戶分析產品質量
（1）當產品表面存在微小的異物，而常規的成分測試方法無法准確對異物進行定性定量分析，可選擇XPS進行分析，XPS能分析≥10μm直徑的異物成分以及元素價態，從而確定異物的化學態，對失效機理研究提供准確的數據。
（2）當產品表面膜層太薄，無法使用常規測試進行厚度測量，可選擇XPS進行分析，利用XPS的深度濺射功能測試≥20nm膜厚厚度。
（3）當產品表面有多層薄膜，需測量各層膜厚及成分，利用D-SIMS能准確測定各層薄膜厚度及組成成分。
（4）當產品的表面存在同種元素多種價態的物質，常規測試方法不能區分元素各種價態所含的比例，可考慮XPS價態分析，分析出元素各種價態所含的比例。
3.注意事項
（1）樣品最大規格尺寸為1×1×0.5cm，當樣品尺寸過大需切割取樣。
（2）取樣的時候避免手和取樣工具接觸到需要測試的位置，取下樣品後使用真空包裝或其他能隔離外界環境的包裝， 避免外來污染影響分析結果。
（3）XPS測試的樣品可噴薄金（不大於1nm），可以測試弱導電性的樣品，但絕緣的樣品不能測試。
（4）XPS元素分析范圍Li-U，只能測試無機物質，不能測試有機物物質，檢出限0.1%。