㈠ led高精度閃光測速儀怎麼使用
閃光測速儀*操作指南
1, 測速
(1) 在被測物近中心部分作上標記或認定已有的特徵標記 ( 宜作非對稱的標記 ) 。
(2) 把電源插頭插入插座,按下尾部的電源開關,按通電源,數碼管顯示屏即顯示該檔的閃光速值。
(3) 若待測物體轉速值的大致范圍未知時,先將按鍵開關置於「 」檔。 細調旋紐 ( 帶動十圈電位器 ) 。先順時針轉到頭,把閃光對准標記,一邊把細調旋鈕逆時針微凋整,一邊觀察標記,當第一次出現穩定的單象時,數碼管顯示的讀數就是被測物的每分鍾轉數。若「 」檔不出現單定象時,用類似上述的方法。在「 」檔內尋找。
(4) 若被測物轉速的范圍已知,則將按鍵開關置於包含此速值的某檔,用細調旋鈕使閃光從高速向低速變化,第一次出現穩定的單象時,從數碼管顯示屏上讀出被測物的每分鍾轉速。
2 動態觀測
方法同 l 。在出現第一個單象時,調節細調旋鈕,讓閃光頻率與轉速略有差異。這樣,單象就不是靜止而是以慢速轉動,象的旋轉方向和速度受微調旋鈕控制,視需要而定。
3 旋轉方向判別
方法同 1 。在出現第一個單象時,調節細調旋鈕讓閃光頻率略低於轉速,這時單象就不是靜止不動而是慢速旋轉。象的旋轉方向就是轉動物體的旋轉方向。速度測量法則 閃光測速儀實際提供了一個頻率可調,持續時間極短的脈沖光源。假如電風扇以每分鍾 1300 轉的速度旋轉,閃光頻率也是每分鍾 1300 次,由於兩者速度相等 ( 同步 ) 。顯然每次閃光時,電扇葉片必將位於上次閃光時所在的位置上。因此,藉助於人的視覺暫留,電扇的葉片似乎根本不動。這就是說,當儀器的閃光頻率與被測物的轉動頻率相等時,轉動物體看起來好象靜止一樣,呈現一個靜止的圖象。這時,閃光頻率就是物體的轉速,這就是閃光測速原理。 假定風扇的轉速仍舊是每分鍾 1300 轉,而閃光的速度變為每分鍾 1301 次,由於閃光速度比電扇轉速快,所以每次閃光時,電扇的葉片還沒有到達上次閃光照射時所在的位置而略有滯後。這種現象在視覺上會覺得電扇在緩慢地向後轉動。反之,當閃光速度是每分鍾 1299 次時,人眼就會覺得電扇在緩慢地向前轉動。這就是說,當儀器的閃光頻率與被測物的轉動頻率略有不同時,就會出現比實際速度慢得多的頻閃圖象,而且它恰恰是高速運動的真實翻版。利用這個現象就可以對高速運動進行仔細觀察和測量。
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㈡ 光譜儀分析儀怎麼調
掃描、波長編程及時間驅動各項方法可根據顯示的參數表,逐項按需要選用或填入,並可參考提示。
濃度方法窗口下方標簽較多,說明做濃度測定時需要參數較多。用滑鼠指按每一標簽,可翻出下頁,其上有一些需要測定的參數。必須逐頁設定。
光譜儀分類和原理
根據現代光譜儀器的工作原理,光譜儀可以分為兩大類:經典光譜儀和新型光譜儀。經典光譜儀器是建立在空間色散原理上的儀器;新型光譜儀器是建立在調制原理上的儀器,經典光譜儀器都是狹縫光譜儀器。
調制光譜儀是非空間分光的,它採用圓孔進光根據色散組件的分光原理,光譜儀器可分為:棱鏡光譜儀,衍射光柵光譜儀和干涉光譜儀。
光譜分析儀的分析原理是將光源輻射出的待測元素的特徵光譜通過樣品的蒸汽中待測元素的基態原子所吸收,由發射光譜被減弱的程度,進而求得樣品中待測元素的含量。
它符合郎珀-比爾定律 A= -lg I/I o= -LgT = KCL 式中I為透射光強度,I0為發射光強度,T為透射比,L為光通過原子化器光程由於L是不變值所以A=KC。
㈢ 熒光定量PCR分析儀校準方法有哪些
兩個方面:
一是每個孔的溫度是否和標定溫度符合
二是每個孔的PMT是否維持穩定,有廠家提供的校準盤
㈣ 熒光分析儀保養及使用
熒光光譜法具有靈敏度高、選擇性強、用樣量少、方法簡便、工作曲線線形范圍寬等優點,可以廣泛應用於生命科學、醫學、葯學和葯理學、有機和無機化學等領域。
熒光分光光度計的發展經歷了手控式熒光分光光度計,自動記錄式熒光分光光度計,計算機控制式熒光分光光度計。
光分光光度計三個階段;熒光分光光度計還可分為單光束式熒光分光光度計和雙光束式熒光分光光度計兩大系列。其他的還有低溫激光Sh p ol』skill熒光分光光度計,配有壽命和相分辯測定的熒光分光光度計等
熒光分光光度計操作步驟
1.開機:接通電源,打開主機開關,點燃(打開)光源後,根據說明書要求啟動計算機。
2.檢測前准備:參照儀器說明書,在20天內至少進行一次激發校準和發射校準,檢測前儀器應預熱。
3.工作條件的選擇:環境溫度應在20℃±5℃;相對濕度不大於70%;電源穩定,無磁場、電場干擾。根據樣品的特性及熒光強度,選擇合適的儀器工作條件(如狹縫、PM增益、響應時間等)。
(1)熒光激發光譜測定
設置儀器參數,掃描發射波長,找到maxλem,以此為發射波長,記錄發射強度作為激發波長的函數,便得到激發光譜。
(2)熒光發射光譜測定
設置儀器參數,掃描激發波長,找到maxλex,以此為激發波長,記錄發射強度與發射波長間的函數關系,便得到熒光發射光譜。
(3)差譜測定
設置儀器參數,選擇合適的工作方式,測定背景溶液的發射光譜並儲存起來,在一定的工作方式下,掃描樣品溶液的發射波長,得到當時的光度值和儲存的背景值之間的差示值,即差譜。
(4)峰面積積分
選擇適當的工作方式,對樣品溶液進行積分操作,即得到峰面積積分。
(5)熒光強度
選擇合適的測量參數,設置λex、λem,採用定點讀數或掃描方式,即可測得所選波長處的熒光強度。
(6)定量測定
配製一系列已知濃度的標准溶液,在一定的測定條件下,設置λex、λem,按照由稀至濃的次序,測定標准溶液的熒光強度,繪制熒光強度—濃度的工作曲線,不改變儀器參數測定未知溶液的熒光強度,由工作曲線即可求出未知溶液的濃度。
㈤ 網路分析儀的校準操作步驟是什麼
1、首先設置頻率:按CENTER鍵(假如設置中心頻率為506M的濾波器,就直接設置為506M)。
2、在設置帶寬(顯示帶寬):按SPAN鍵,一般設置為100M。
3、再按CAL鍵→CALIBRATEMENU(第三個鍵)→RESPONSE(再第二個鍵)→THRU
4、再按MARKER鍵設置第一個標記點,再按MARKER設置第二點,在依次內推(一般設置5個標記點。比如說設計414M(帶寬16M)的濾波器各MARKER應如下標記。
希望以上內容可以幫到你。
㈥ JPBJ-608攜帶型溶解氧分析儀 怎麼校準
一起校驗由計量局進行,定期校準由專人進行。步驟如下:
7.2儀器校準:
7.2.1電極的校準:每月校準一次儀器,或懷疑數字不穩定時隨時校準。
7.2.2零氧校準:將電極插頭插好,打開溶氧儀開關,極化電極30分鍾。將電極放入5%亞硫酸鈉溶液內,按「模式/測量」 鍵,儀器進入模式選擇狀態,選擇「ZERO」(顯示在液晶屏幕左下角)。按「確認/列印」鍵即進入零氧校準狀態。 待讀數穩定後按「確認/列印」鍵,儀器自動退出「ZERO」狀態,進入模式選擇狀態,零氧校準結束。
7.2.3滿度校準:把溶解氧電極從溶液中取出,用水沖洗干凈,用濾紙小心吸干薄膜表面的水分,並放入空氣中,按「▲」或「▼」鍵選擇「Full」模式狀態,按「確認/列印」鍵進入滿度校準狀態。待讀數穩定後按「確認/列印」鍵,儀器自動退出「Full」狀態,進入模式選擇狀態,滿度校準結束。7.2.4然後,按「模式/測量」鍵取消校準狀態,進入測量狀態,校準完成。
㈦ 常用頻閃儀怎樣檢驗呢
DT-311N頻閃儀本身可以發出短暫又頻密的閃光,當我們調節其閃光速率與被檢測物體的轉速或振動速率同步時,在視覺上會感到該運動物體呈現靜止狀態,就此可以判定頻閃儀的閃速即為被檢測物體(例如馬達)之轉速,也可以利用頻閃儀分析物體振動情況,高速移動物體的動作分析以及高速攝影等。
DT-311N頻閃儀的應用:
檢查印刷機的印刷錯差
檢查生產線上的盒子、瓶裝物
檢測工業機器的傳動帶
檢查織機振動
檢查旋轉裝置的測量、發動機、齒輪、滑輪、風扇等轉軸的離心運動
檢查渦輪、引擎等的高速運轉
㈧ 功率分析儀用什麼來校準
功率分析儀屬於高精密測量儀器,所以對於相應校準源的要求也比較高,通常都是用FLUKE、Agilent的源,如FLUKE 5720A/5520A和Agilent 3458A用來校準電壓、電流的精度、主要是針對增益與頻響及全球至高標準的FLUKE 6105A用來校準功率等,不過這些儀器的售價是比較高的。
㈨ 矢量網路分析儀的校準方法有哪些
以R&SZVB矢量網路分析儀2埠的TOSM校準為例(網路分析儀校準),操作步驟為先按CAL鍵激活校準菜單,然後按『StartCal』鍵進入下一級校準菜單,按『Two-PortP1P2』鍵選擇2埠校準,並進入下一級菜單按『TOSM』鍵選擇TOSM校準方式,選擇正確的接頭形式,以及正確的校準件的型號,最後點擊「Next」鍵,進入校準菜單,TOSM校準共有7個步驟,這里就不做更詳細的說明了。盡管一般VNA的UserGuider上都有儀器校準的方法,但是還有很多細節需要注意的:
A、設定測試參數--選擇測試頻率范圍:一般的頻率范圍要稍微大於測試指標規定的范圍,選擇VNAPort激勵功率,對於無源器件,可以選擇稍微大的激勵功率,如果對於多埠VNA,還需要選擇測試port。
B、選擇校準件,選擇校準方法,通過儀器校準的Guide完成校準--每個公司都有不同的規格的校準件,例如N型的,SMA型的,這個在校準之前一定要選擇好,這個是因為廠家提供的校準件,開路短路負載等也不是理想的反射系數分別為1,-1和0。同公司的VNA中會定義校準件,將校準件的特性預先存入VNA,以便校準時求解誤差方程。因此,如果校準件選擇不當,校準的意義也就沒有了。
C、校準結果檢查--這一步不是必須的,但個人覺得作為一個優秀的射頻工程師,這一步是至關重要的,主要是開路校準特性的檢查、負載校準特性的檢查、直通檢查三大方面。
㈩ 光譜分析儀的測試標准參數及方法和注意事項是什麼
材質必須均勻。你的待測元素不均勻的話,多的地方和少的地方差別會較大。因為XRF光譜儀入射光線一般較窄,直徑1-5微米,也就是說照射到樣品的區域會很小,所以不均勻樣品檢測會不準確,當然主要也是看不均勻程度。
你的交錯規律排列指的什麼?如果是一層高分子,一層無機物,在一層高分子一層無機物,並且每層的厚度一定(比如第一層高分子都是10微米厚)。這樣的可以在一定程度上看成是均勻的,但是用X熒光光譜儀測量還是有問題,因為X熒光透過不同物質有無限厚(某元素的X熒光透射不出來的厚度,原因是自吸收)的問題。這樣誤差看你每層的厚度了,如果每層都很薄,比如幾個微米那麼影響會較小。如果每一層達到幾十比如50微米以上,那麼影響就會較大。
晶體成分沒什麼,只要是均勻分布就可以,因為即便有分光等現象,也是等概率的,因為是均勻分布。